PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡(jiǎn)稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見(jiàn)的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護(hù)性鍍層,但主要以添加防護(hù)性鍍層(金屬鍍層、有機(jī)物鍍層和復(fù)合鍍層)為主。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢。防護(hù)性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學(xué)鍍、物理氣相沉積等。

真空鍍膜設(shè)備如何操作？

真空鍍膜設(shè)備操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說(shuō)明書(shū)和真空鍍膜機(jī)上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。

檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開(kāi)關(guān)是否在'關(guān)'位置。打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。

低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。

把薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。

啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。

如何正確使用真空鍍膜設(shè)備。

機(jī)床的正常進(jìn)行運(yùn)行的情況下，啟動(dòng)機(jī)器，要先打開(kāi)水管，應(yīng)始終注意提高工作水壓力。

同時(shí)離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不能接觸，防止觸電。涂層中的電子槍，鋁的外鐘。建議用鉛玻璃觀察窗玻璃，應(yīng)戴眼鏡觀察鉛玻璃，防止射線照射人體。多層介質(zhì)膜涂層的沉積應(yīng)配備通風(fēng)除塵設(shè)備，及時(shí)清除有害粉塵。