ITO真空鍍膜設備生產(chǎn)特點

1)真空室體資料選用SUS304，真空室內壁進行拋光處理，外壁選用拋光后噴珠處理。

2)真空室之間選用獨立門閥-插板閥隔開，能夠完成有用隔斷，安穩(wěn)技能氣體?，F(xiàn)在咱們至成真空科技選用插板閥規(guī)劃，它比現(xiàn)在國內通用的翻板閥密封作用非常好，更經(jīng)用。

3)傳動選用磁導向，確保傳動的安穩(wěn)性。整條出產(chǎn)線的各段速度選用變頻調速電機驅動，運轉速度可調理。

4)真空電鍍設備電氣操控體系：觸摸屏與PLC自動操控，人機對話辦法來完成體系的數(shù)據(jù)顯現(xiàn)、操作與操控

多功能真空鍍膜機是怎么構成的？

多功能真空鍍膜機是磁控濺射、多弧離子、蒸發(fā)鍍膜的混合性設備，是在多弧離子鍍膜機的基礎上裝備圓柱靶或平面磁控靶，設備具有離子鍍的高離化率、高堆積速度的特色，一起也具有磁控濺射低溫、安穩(wěn)的長處，合適鍍各種復合膜。

多功能真空鍍膜機--磁控、中頻、多弧離子鍍膜具體介紹：

①蒸騰與磁控濺射的混合設備:多功能，合適量產(chǎn)，適應性強。

②磁控濺射與多弧離子鍍的混合運用:多弧能夠進步炮擊清洗質量，添加薄膜與基材結合力。與磁控濺射一起作業(yè)可鍍制復合膜（高能離子源清洗活化，成膜速度快）。

③多對中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合運用:中頻靶更安穩(wěn)（如Al），離化率高、堆積速率快、成膜均勻。中頻反應濺射如鍍制Si02、TiO2，一起鍍多層不一樣原料簿膜。

④射頻、直流、中頻、柱弧的混合運用：射頻能夠直接鍍制絕緣保護膜如SiO2/Ag/SiO2

⑤圓柱弧、中頻、多弧的混合運用:柱弧確保高離化率的一起，削減大顆粒堆積的份額，到達有好的結合力又有較好表面光潔度的作用。多功能真空鍍膜機適用中高層次商品如表帶、表殼、眼鏡框、手機殼、高爾夫球具、衛(wèi)浴潔具、飾品等。

離子真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法是怎樣的呢？

離子真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品表面大多采用過渡族金屬（如Ti、Zr、Cr）或其合金的氮、碳、氧的化合物，還有用非晶碳（類金剛石）膜的。一般來說，這些化合物本身的化學惰性比較高，耐腐蝕性能很好。但是一些裝飾鍍層產(chǎn)品包括表件、手機殼、高爾夫球頭等，卻未能通過人工汗腐蝕試驗或中性鹽霧腐蝕試驗。裝飾鍍層產(chǎn)品的腐蝕不單是鍍層本身的耐蝕性問題，還包括裝飾鍍層 基體的系統(tǒng)腐蝕問題。許多研究工作都表明離子鍍裝飾鍍層自身耐蝕性好，它鍍在金屬（如不銹鋼）基體上，對基體整體均勻抗腐蝕能力有提高，但裝飾鍍層很薄，不可避免地存在表面缺陷﹐如微裂紋、微孔、孔、柱狀晶界、電弧沉積的宏觀顆粒等。腐蝕介質可通過這些缺陷所形成的通道，穿過鍍層到達基體。