脈沖激光沉積細節(jié)介紹

很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧氣壓力（>100 Torr）下冷卻是有利的。所有Pioneer 系統(tǒng)設計的工作壓力范圍。從它們的額定初始壓力到大氣壓力。這也有益于納米粒子的生成。

Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。淺的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。

為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體，消除油的回流對薄膜質(zhì)量的影響，所有Pioneer 系統(tǒng)的標準配置都采用無油真空系統(tǒng)。

我們的研究表明靶和基片的距離是獲得較佳薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)采用可變的靶和基片的距離，對沉積條件進行較大的控制。

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脈沖激光沉積簡介

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

【設備主要用途】

PLD450A型脈沖激光沉積設備采用PLD脈沖激光沉積技術(shù)，用于制備高溫超導薄膜、半導體膜、鐵電薄膜、硬質(zhì)薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié)，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機—無機復合材料薄膜及金剛石薄膜等。

【設備優(yōu)點】

設備全程采用一鍵式操作抽氣，關(guān)機，程序自動化定時操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開啟。

【設備主要組成】

設備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉(zhuǎn)臺、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計算機控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)、脈沖準分子激光器等組成