微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右）膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；電源輸出大電流：5A、10A、30A、50A、100A等可選。第二步：將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為：不銹鋼板；溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化膜的性能特點(diǎn)

1. 硬度極高，可達(dá)1500-2000HV.比一般陽極氧化或電鍍處理高許多；

2. 耐磨性；

3. 耐腐蝕性好，耐中性鹽霧可達(dá)2000h以上；

4. 絕緣性能良好；

5. 附著力良好，將工件加熱至300℃，立即浸入冷水中，反復(fù)數(shù)次都未發(fā)現(xiàn)氧化膜掉落。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源的好處、微弧氧化廠家

微弧氧化現(xiàn)象及特點(diǎn)

       在陽極氧化過程中，當(dāng)鋁合金上施加的電壓超過一定范圍時(shí)，鋁合金表面的氧化膜就會(huì)被擊穿。隨著電壓的繼續(xù)不斷升高，氧化膜的表面會(huì)出現(xiàn)輝光放電，微弧和火花放電燈現(xiàn)象。輸出電流的容量視加工工件的表面積而定，一般要求6～10A/dm2。在微弧氧化的過程下，原來生產(chǎn)的氧化膜不會(huì)脫落，只有表面一部分氧化膜可能會(huì)被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時(shí)間的延長，微弧氧化膜厚度會(huì)不斷增加，直至達(dá)到外加電壓所對應(yīng)的終厚度。