PVD真空鍍膜能否替代傳統(tǒng)化學鍍膜工藝？PVD真空鍍膜有著結(jié)合力強，保色更持久，耐磨性強等特點，某種程度上比傳統(tǒng)電鍍有更好的優(yōu)勢，那么這種鍍膜工藝能否替代掉傳統(tǒng)化學鍍膜工藝呢？回答是不可以的，至少現(xiàn)階段不可以。目前電鍍技術(shù)來看，現(xiàn)階段PVD真空鍍膜除了能在不銹鋼材料表面直接鍍膜以外，很多其他的材料都不可以直接電鍍，包括鋅合金、銅、銀等等，需要在此工藝之上進行化學電鍍鉻或者鎳來作為底層保護。因為五金制品很多都比較便宜，也只會進行化學電鍍膜層而已。

真空鍍膜--磁控濺射鍍膜技能

一、磁控濺射鍍膜－濺射原理：

1.使chamber到達真空條件，一般控制在(2~5)E-5torr

2.chamber內(nèi)通入Ar，并啟動DC power

3.Ar發(fā)作電離：Ar ? Ar ＋ e-

4.在電場效果下，（電子）會加快飛向anode（陽極）

5.在電場效果下，Ar 會加快飛向陰極的target（靶材），target粒子及二次電子被擊出，前者到達substrate（基片）表面進行薄膜生長，后者被加快至陰極途中促成更多的電離。

6.筆直方向分布的磁力線將電子約束在靶材表面附近，延長其在等離子體中的運動軌道，進步它參與氣體分子磕碰和電離過程的幾率的效果。

PVD真空鍍膜技術(shù)知識問答：什么是PVD？真空電鍍加工真空鍍膜技術(shù)。PVD是英文的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。請問PVD鍍膜的具體原理是什么?離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。