制版（platemaking）是將原稿成印版的統(tǒng)稱。光掩膜所起的作用類似于底片之于相片，光刻通過光掩膜在芯片上顯影。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現(xiàn)澆鑄成凸版和將圖像經(jīng)照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影響印版質(zhì)量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時間以及顯影液的循環(huán)攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。

PS版的顯影時間主要由PS版的種類、曝光時間及顯影液的濃度、顯影溫度等條件來確定。當(dāng)上述條件確定制版機(jī)后，PS版的顯影程度與顯影時間成正比關(guān)系，即顯影時間越長，顯影越徹底。但顯影時間過長會產(chǎn)生網(wǎng)點縮小等現(xiàn)象。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

1） 繪制生成設(shè)備可以識別的掩膜版版圖文件（GDS格式）2） 使用無掩模光刻機(jī)讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)3） 經(jīng)過顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層4） 使用鉻刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護(hù)的鉻層不會被刻蝕，形成不透光區(qū)域。使用掩膜板存在許多損傷來源:掩膜板掉鉻:表面擦傷，需要輕拿輕放:靜電放電(ESD)，在掩膜板夾子。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。5） 在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對掩膜版進(jìn)行清洗。

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光呆板業(yè)界別稱光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金屬鉻和光感應(yīng)膠，該商品是由石英玻璃或是碳酸鈉夾層玻璃做為襯底，在其上邊鍍上一層層金屬鉻和光感應(yīng)膠。④一般情況下，陽圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。在塑料薄膜、塑膠或夾層玻璃化學(xué)反應(yīng)原材料上制做各種各樣作用圖型并精i明確位，便于用以光致抗蝕劑鍍層可選擇性曝i光的這種構(gòu)造，稱之為光刻掩模板。 

石英巖的原巖可以是：單礦物石英砂巖，含泥質(zhì)、鈣質(zhì)石英砂巖，膠體沉積的硅質(zhì)巖（包括陸源碎屑溶解再沉積的硅質(zhì)巖和與火山噴氣有關(guān)的硅質(zhì)巖）和深海蟲硅質(zhì)巖等。不同原巖形成的石英巖，可根據(jù)結(jié)構(gòu)、變晶程度、副產(chǎn)物、巖石共生組合及產(chǎn)狀等加以區(qū)分。