公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶(hù)的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

實(shí)體結(jié)構(gòu)：布滿(mǎn)集成電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。倍縮光掩模（Reticle）：當(dāng)鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱(chēng)為倍縮光掩模，通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模（Mask）：當(dāng)鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個(gè)晶圓時(shí)稱(chēng)之為光罩。

烤版如需要烤版，烤版時(shí)要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。如用固體桃膠配制，一定要用熱水溶膠，膠要徹底溶開(kāi)、過(guò)濾再用。②把適量的烤版膠涂在版面上，用海綿將版面涂擦均勻。③烤版膠不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤，圖像區(qū)域會(huì)均勻變色。不同的PS版，烘烤時(shí)間、溫度及終顏色會(huì)不一致，所以需通過(guò)試驗(yàn)確定烤版條件。使用掩膜板存在許多損傷來(lái)源:掩膜板掉鉻:表面擦傷，需要輕拿輕放:靜電放電(ESD)，在掩膜板夾子。

烤版時(shí)還要注意：①烤版箱內(nèi)的紅外燈管一定要橫向排列，如縱向排列，往往導(dǎo)致印版瓦楞狀變形而影響使用。②烤版膠濃度要合適，如烤版膠太稠，烤版效果和上墨效果也不會(huì)令人滿(mǎn)意；使用鉻刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護(hù)的鉻層不會(huì)被刻蝕，形成不透光區(qū)域。如烤版膠太稀，烤出的版容易上臟。③烤版溫度不能過(guò)高，溫度過(guò)高也會(huì)導(dǎo)致鋁版基韌化和發(fā)軟，樹(shù)脂層焦化，影響耐印力。

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實(shí)際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線(xiàn)；④一般情況下，陽(yáng)圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實(shí)際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。