真空鍍膜技術(shù)是一項(xiàng)新興的技術(shù)，國際上直到60年代才開始將CVD(化學(xué)氣相鍍膜)技術(shù)應(yīng)用到硬質(zhì)合金工具中。因?yàn)檫@種方法需要在高溫(工藝溫度高于1000oC)下進(jìn)行，且涂層類型單一，局限性很大，所以在開發(fā)初期還有待改進(jìn)。五金鍍膜廠

、真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面，PVD法歷早采用真空蒸鍍技術(shù)。

 PVD真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍。在其中，揮發(fā)物質(zhì)的分子被電子器件撞擊弱電解質(zhì)后，以正離子沉積在固態(tài)表面，稱之為離子鍍。這類技術(shù)是D.麥托阿斯特里于1963年明確提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與負(fù)極磁控濺射技術(shù)的融合。真空泵離子鍍膜又可分成電孤離子鍍、磁控濺射離子鍍、中空負(fù)極離子鍍膜三種方法。

PVD真空鍍膜能否替代傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜工藝？PVD真空鍍膜有著結(jié)合力強(qiáng)，保色更持久，耐磨性強(qiáng)等特點(diǎn)，某種程度上比傳統(tǒng)電鍍有更好的優(yōu)勢，那么這種鍍膜工藝能否替代掉傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜工藝呢？回答是不可以的，至少現(xiàn)階段不可以。目前電鍍技術(shù)來看，現(xiàn)階段PVD真空鍍膜除了能在不銹鋼材料表面直接鍍膜以外，很多其他的材料都不可以直接電鍍，包括鋅合金、銅、銀等等，需要在此工藝之上進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻或者鎳來作為底層保護(hù)。因?yàn)槲褰鹬破泛芏喽急容^便宜，也只會進(jìn)行化學(xué)電鍍膜層而已。

金屬電鍍加工廠電鍍要進(jìn)行以下這樣的進(jìn)程:首要金屬真空鍍膜加工廠在盛有電鍍液的鍍槽中，通過整理和特別預(yù)處理的待鍍件作為陰極，用鍍覆金屬制成陽極，南北極別離與直流電源的負(fù)極和正極聯(lián)接。電鍍液由富含鍍覆金屬的化合物、導(dǎo)電的鹽類、緩沖劑、pH調(diào)節(jié)劑和添加劑等的水溶液組成。通電后，電鍍液中的金屬離子，在電位差的效果下移動到陰極上構(gòu)成鍍層。陽極的金屬構(gòu)成金屬離子進(jìn)入電鍍液，以堅(jiān)持被鍍覆的金屬離子的濃度。