鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響：

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時(shí)與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時(shí)等離子體密度也減弱，動(dòng)能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差

輝光清洗：對(duì)工件施加負(fù)偏壓，產(chǎn)生輝光放電，利用ya離子轟擊工件表面，這種輝光放電清洗作用比較柔和，一般采取由弱到強(qiáng)的轟擊清洗順序，是怕工件太臟時(shí)一開始就強(qiáng)轟擊，可能產(chǎn)生強(qiáng)烈的打火而損傷工件。

佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

真空鍍膜的形式：蒸發(fā)鍍膜

工藝原理：

1）在真空室中，膜料被加熱變成蒸發(fā)原子，蒸發(fā)原子在真空條件下不與殘余氣

體分子碰撞而到達(dá)工件表面；

2）蒸發(fā)原子與基材碰撞后一部分被反射，另一部分被吸附；

3）吸附原子在基材表面發(fā)生表面擴(kuò)散。

有機(jī)鍍膜與無(wú)機(jī)鍍膜的根本區(qū)別

真正的玻璃鍍膜應(yīng)為純無(wú)機(jī)質(zhì)成分，成膜后不應(yīng)含有任何j基團(tuán)（CH3）。利用紅外線光譜吸收分析法，可以了解各種鍍膜原料的內(nèi)部化學(xué)成分，這是區(qū)別真假無(wú)機(jī)質(zhì)鍍膜產(chǎn)品的重要科學(xué)依據(jù)。