高純石墨一般指含碳量在99.99%以上的石墨，在組織結(jié)構(gòu)上可分為粗顆粒結(jié)構(gòu)、細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)和超細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)三類，高純石墨大量用于直拉單晶硅爐中。集成電路的基礎(chǔ)材料主要是硅單晶芯片，目前硅單晶的成長(zhǎng)工藝主要采用直拉法，其他方法還有磁場(chǎng)直拉法、區(qū)域法以及雙坩堝拉晶法，直拉單晶硅爐中的石墨件是消耗品，采用高純石墨材料加工成直拉單晶硅爐的加熱系統(tǒng)。


它只從干切削法開始。然而，高速鋼的耐磨性很差，容易在加工過程中產(chǎn)生嚴(yán)重磨損。因此，對(duì)于精度和質(zhì)量要求較高的石墨產(chǎn)品，不能采用刀具加工，而應(yīng)采用涂層刀具或耐磨性刀具。切削刀具。例如，采用硬質(zhì)合金涂層刀具、硬質(zhì)合金YG8刀具等。硬質(zhì)合金主要由TiC、TaC、WC等難熔金屬碳化物組成，采用冶金方法提取鐵粉。與普通高速鋼相比，硬質(zhì)合金具有硬度高、耐磨性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)，與超硬材料相比，硬質(zhì)合金具有韌性好的優(yōu)點(diǎn)。硬質(zhì)合金鋼的流入非常廣泛，這不僅提高了生產(chǎn)效率，而且提高了石墨產(chǎn)品的質(zhì)量。因此，在切削刀具的選擇中必須進(jìn)行適當(dāng)?shù)倪x擇。

石墨熱場(chǎng)一般包括（石墨材料）壓環(huán)、保溫蓋、上中下保溫罩、石墨坩堝(三瓣堝)、坩堝托桿、坩堝托盤、電極、加熱器、導(dǎo)流筒、石墨螺栓，且為了防止漏硅，爐底、金屬電極、托桿、都設(shè)置了保護(hù)板、保護(hù)套。

單晶爐石墨熱場(chǎng)簡(jiǎn)單的說就是用來拉單晶硅的整套石墨加熱系統(tǒng)。常見的是18寸、22寸和24寸的石墨熱場(chǎng)。一種流行的石墨熱場(chǎng)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)方案是采用石墨材料制作熱場(chǎng)隔熱部件。標(biāo)準(zhǔn)的石墨保溫材料由板狀或者多層毯狀石墨化碳纖維材料組成，在靠近熱場(chǎng)中心的內(nèi)表面往往需要加覆一層石墨紙或碳碳復(fù)合材料薄板用來提高熱反射率和防止高壓氣流的沖刷。

石墨坩堝爐的維護(hù)方法主要有：

1、石墨坩堝嚴(yán)格防潮，必須存放在干燥的地方或木架上。

2、爐子和坩堝應(yīng)根據(jù)坩堝的形狀?yuàn)A在中心，以防止坩堝受到應(yīng)力損傷。

3、坩堝應(yīng)放在爐子中間。

4、操作過程中，坩堝可一次翻轉(zhuǎn)一次，延長(zhǎng)坩堝的使用壽命。

5、小心輕放，不要摔倒。

6、把溫度提高到500度。使用前在干燥設(shè)備或爐子上加熱烘烤

7、防止坩堝的側(cè)面和底部受到強(qiáng)烈腐蝕。

8、坩堝應(yīng)放置在爐口平面下方，以防止?fàn)t蓋磨損坩堝上開口。

9、當(dāng)清除坩堝表面內(nèi)壁上的熔渣和焦炭時(shí)，應(yīng)輕敲坩堝，以防損壞坩堝。

10、另外，根據(jù)坩堝的數(shù)量，不允許裝得太多，過緊，以防止坩堝擰緊。