氧化鎂(MgO)單晶是指MgO含量在99.95%以上，具有極強的耐高低溫（高溫2500℃，低溫-270℃）抗腐蝕性、絕緣性和良好的導熱性和光學性能、無色透明的晶體。氧化鎂(MgO)單晶廣泛用于航空、航天、國1防通訊、醫(yī)1療器械、光學儀器、等離子電視機保護膜蒸發(fā)源等領域。在等離子顯示屏PDP中更是理想的電板保護膜材料是決定PDP壽命的主要因素，同時對PDP的工作性能(亮度和光效記憶容量著火電壓等)有較好影響。

氧化鎂一般情況下是白色粉末，但是氧化鎂晶體，離子晶體，氧是典型的非金屬，鎂是典型的金屬，所以形成的氧化鎂是離子晶體。氧化鎂（MgO）單晶基片廣泛應用在多個薄膜技術領域中。用于制作磁學薄膜、半導體薄膜、光學薄膜和高溫超導薄膜等,也可用于制作移動通訊設備所需的高溫超導微波濾波器等器件。由于氧化鎂良好的電絕緣性和耐腐蝕性等功能特性,可以制成透明陶瓷、發(fā)光品體,催化劑等,同時它還是二種優(yōu)良的薄膜生長基質材料。

 含氧化鎂80%(重量)以上的粗原料用無機酸(硫酸、鹽酸)以摩爾比1:2的比例進行溶解,制成無機酸的鎂鹽。氧化鎂的熔點在2800°C以上，沸點為3600°C，所以要想得到大尺寸、高純度的氧化鎂單晶，對原料的選擇和控制要求非常嚴格。在氧化鎂單晶基片上制造的高溫超導薄膜，其物理性能穩(wěn)定、質量優(yōu)越，在眾多高溫超導基片中，大有成為不可取代的選擇。