正確維護(hù)保養(yǎng)純水處理設(shè)備的重要性解析

在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。陽(yáng)離子交換樹脂用其H＋交換去除水中的陽(yáng)離子，陰離子交換樹脂用其OH－交換去除水中的陰離子，在混床樹脂中被交換出來的H＋和OH－結(jié)合生成H2O，因此混床離子交換純化柱可用來深度去除RO純水中尚存的微量離子。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會(huì)使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸附在硅片表面，就會(huì)引起電路短路或特性變差。

占地面積小

EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)與混床相比在相同流量處理能力的條件下占地面積要小的多，約為1/10。這種為客戶著想的設(shè)計(jì)是通過省去巨大的再生儲(chǔ)存和廢水中和系統(tǒng)而得以實(shí)現(xiàn)的。

總而言之，EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、使用方便、占地面積小、無化學(xué)污染等性能優(yōu)勢(shì)，對(duì)于沒有專業(yè)操作人員的廠家來說是好的選擇。防止反滲透膜結(jié)垢現(xiàn)象的發(fā)生要從四方面著手，濾速方面，過濾器的濾速不能太快又不能太慢反洗，。因?yàn)橐话愕暮?jiǎn)單培訓(xùn)人員無法熟練的操作混床超純水設(shè)備的再生、樹脂再生等，嚴(yán)重影響廠家的正常生產(chǎn)。采用EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)可以很好的保障生產(chǎn)進(jìn)程，又能省去后期的維護(hù)麻煩，何樂而不為。

電子純水設(shè)備為什么會(huì)出現(xiàn)化學(xué)結(jié)垢問題

在電子純水設(shè)備的原水中含有大量的無機(jī)物離子，原水沒經(jīng)過處理之前，一般來說，離子的濃度是不會(huì)達(dá)到飽和度的，也就不會(huì)發(fā)生生成水垢的問題。如果我們使用天然水作為超純水生產(chǎn)設(shè)備的原水時(shí)，會(huì)有大量的微生物進(jìn)入到反滲透系統(tǒng)中，而且，設(shè)備工作環(huán)境溫度一般在20攝氏度到40攝氏度之間，這一溫度下非常適合微生物的生長(zhǎng)，微生物在這個(gè)環(huán)境下會(huì)快速繁殖生長(zhǎng)，使其含量達(dá)到一個(gè)很高的水平。但是，當(dāng)原水經(jīng)過反滲透系統(tǒng)之后，原水按反滲透系統(tǒng)75%的回收率計(jì)算的話，濃水已經(jīng)經(jīng)過了4倍的濃縮，這時(shí)候水質(zhì)的離子濃度已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)達(dá)到其飽和度，這時(shí)候就會(huì)結(jié)晶析出，生成水垢。