氧化鋯由于ZrO2單晶需摻入釔（Y）以穩(wěn)定其結構， 一般實際使用的是YSZ單晶――加入釔穩(wěn)定劑（含量約19%）的氧化鋯單晶。它機械、化學穩(wěn)定性好，價格較低因而得以廣泛應用。氧化鋯存在三種穩(wěn)定度同素異晶體：單斜相，立方相和四方相。純氧化鋯的單斜相從室溫到1170℃是穩(wěn)定的，超過這一溫度轉變?yōu)樗姆较?，然后?370℃轉變?yōu)榱⒎较?，直?680℃發(fā)生融化。

氧化鋯由于ZrO2單晶需摻入釔（Y）以穩(wěn)定其結構， 一般實際使用的是YSZ單晶――加入釔穩(wěn)定劑（含量約19%）的氧化鋯單晶。它機械、化學穩(wěn)定性好，價格較低因而得以廣泛應用。氧化鋯(YSZ)單晶基片是zui早應用于高溫超導薄膜的材料之一。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩(wěn)定劑,常見濃度有13 mol%,YSZ具有機械和化學穩(wěn)定性好、成本低的特點。

氧化鋯晶型有三種 純的氧化鋯在常壓下有三種晶型：從低溫到高溫依次為單斜、四方和立方。其密度分別為：單斜型5.65g/cm3，四方型6.10g/cm3，立方型6.27g/cm3。 可見溫度越高，密度越大。因此，在同樣質量下，溫度越低，體積越大。

氧化鋯的穩(wěn)定化處理 當ZrO2從高溫冷卻到室溫要經歷c→t→m的同質異構轉變，其中由t-m相變過程要產生約7%的體積膨脹，加熱至1170℃時m-ZrO2轉變?yōu)閠-ZrO2，這種轉變過程則發(fā)生體積收縮，這種t相和m相之間的相變稱為ZrO2的馬氏體相變