公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光學(xué)玻璃是指能改變光的傳播方向，并能改變紫外、可見或紅外光的相對光譜分布的玻璃。狹義的光學(xué)玻璃是指無色光學(xué)玻璃;廣義的光學(xué)玻璃還包括有色光學(xué)玻璃、激光玻璃、石英光學(xué)玻璃。賡旭光電光學(xué)玻璃可用于制造光學(xué)儀器中的濾光片、透鏡、棱鏡、反射鏡及窗口等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。由光學(xué)玻璃構(gòu)成的部件是光學(xué)儀器中的關(guān)鍵性元件。

光刻是制造半導(dǎo)體器件和集成電路微圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵工藝。其工藝質(zhì)量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標(biāo)。光罩是光刻工藝中的一個重要環(huán)節(jié)，光刻版必須非常潔凈，所有硅片上的電路元件都來自版圖。PS版的顯影時間主要由PS版的種類、曝光時間及顯影液的濃度、顯影溫度等條件來確定。如果光刻版不潔凈，存在污染顆粒，這些顆粒就會被到硅片表面的光刻膠上，造成器件性能的下降。

使用無掩模光刻機(jī)讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)

經(jīng)過顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層

掩膜版是對勻膠鉻版經(jīng)過光繪加工后的產(chǎn)品。勻膠鉻版(光掩膜基版)由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構(gòu)成的。通過光刻制版工藝,將微米級和納米級的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。