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發(fā)布時間:2021-09-04 11:09  

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淄博奧克非金屬新材料科技有限公司坐落于中國陶瓷之都-山東淄博,是一家專業(yè)從事氧化鋁特種陶瓷研發(fā)、設計、制造、銷售于一體的科技技術企業(yè),公司占地面積20000平方米,員工人數(shù)300人,總投資5000余萬。電熔爐吹煉中作為電弧爐電熔設備是通過使用石墨或其他耐火材料,在其邊緣砌然后再安裝噴嘴,噴嘴應與壓縮空氣裝置連接,然后使用傾斜爐體,石墨作為電極,然后在池中加入氧化,然后用電熔化。公司擁有兩條專業(yè)化生產(chǎn)線,主要生驗儀器及檢測設備、專業(yè)化的研發(fā)人員、先進的生產(chǎn)工藝、完善的質(zhì)量檢測控制體系、現(xiàn)代的企業(yè)管理模式,為國內(nèi)外用戶提供質(zhì)量的產(chǎn)品和售后服務。

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   原水PH值:當PH值大于5時,PH值越低,活性氧化鋁吸附容量越高,除氟方法大致分以下幾種:吸附過濾法;湖北氧化鋁球石廠家直銷山西氧化鋁球石廠家湖北氧化鋁球石生產(chǎn)廠家。膜法;絮凝沉淀法;離子交流法,硫酸鋁再生劑的溶液濃度采用2-3%,硫酸鋁的消耗量可按每去除1g氟化物需60-80g固體硫酸鋁計算,原水堿度:原水中重碳酸根濃度高,吸附容量將降低,

   影響活性氧化鋁球吸附功用的主要要素:顆粒粒徑:粒徑越小,吸附容量越高,但粒徑越小,顆粒強度越低,影響其運用壽命,

   活性氧化鋁球再生:再生劑采用用硫酸鋁溶液,原水初始氟濃度:初始氟濃度越高,吸附容量較大,

再生劑的溶液濃度采用0,75%-1鈉消耗量可按每去除1g氟化物所需8-10g算,再生液用量為濾料體積的3-6倍,氯離子和硫酸根離子,氟化物過高的原水往往呈偏堿性,PH值常大于7,5,活性氧化鋁球分為活性氧化鋁球枯燥劑,活性氧化鋁球除氟劑。同時還根據(jù)吸附物質(zhì)的極性強弱來確定,對水、氧化物、醋酸、堿等具有較強的親合力,活性氧化鋁球是一種微水深度干燥劑,也是吸附極性分子的吸附劑。

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淄博奧克非金屬新材料科技有限公司坐落于中國陶瓷之都-山東淄博,是一家專業(yè)從事氧化鋁特種陶瓷研發(fā)、設計、制造、銷售于一體的科技技術企業(yè),公司占地面積20000平方米,員工人數(shù)300人,總投資5000余萬。活性氧化鋁球除離子類似于陰離子交換樹脂,但對一些離子的選擇性陰離子樹脂大。公司擁有兩條專業(yè)化生產(chǎn)線,主要生產(chǎn)氧化實驗儀器及檢測設備、專業(yè)化的研發(fā)人員、先進的生產(chǎn)工藝、完善的質(zhì)量檢測控制體系、現(xiàn)代的企業(yè)管理模式,為國內(nèi)外用戶提供質(zhì)量的產(chǎn)品和售后服務。

   

新型非金屬研磨體是結合水泥球磨機的特點,通過對磨機內(nèi)研磨體的運動軌跡和能量變化規(guī)律,運用高等算法,計算出研磨體的受力臨界閾值,對研磨體求出受力邊界條件。它能緩沖反應器內(nèi)液體和氣體對催化劑的影響,保護催化劑,改善反應器內(nèi)液體和氣體的分布。本技術的核心之一是新型特種非金屬研磨體材料,通過改變非金屬研磨體的材料配比、元素調(diào)控、成型制備工藝等改性技術,制備出了適合水泥磨機條件的新型特種非金屬研磨體材料。與傳統(tǒng)金屬研磨材料相比,其優(yōu)點是比重小,約為鋼球的1/2;磨耗低,為鋼球的1/3左右。

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淄博奧克非金屬新材料科技有限公司坐落于中國陶瓷之都-山東淄博,公司擁有兩條專業(yè)化生產(chǎn)線,主要生產(chǎn)氧化鋁陶瓷研磨介質(zhì)(氧化鋁球、襯磚、氧化鋁柱球),高純惰性填料球(92%、95%、99%惰性填料球),耐磨陶瓷(耐磨陶瓷片、耐磨陶瓷管道)、氧化鋁異形件等氧化鋁陶瓷制品。在粉磨過程中研磨球的選擇是非常重要的,氧化鋁研磨球具有強度高、硬度高、白度高、磨耗低等特點,比重大可以很大提高研磨的效率,從而更好增加球磨機有效容積達到研磨物料加入量增多的效果。

 惰性氧化鋁瓷球就是普通瓷球,作為反應中裝填催化劑層前后的隔離物使用。惰性氧化鋁球是惰性的,不會與物料發(fā)生反應,起保護作用。

惰性瓷球具有強度高、高化學穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性的特性,惰性瓷球可以耐高溫、壓和酸、堿、鹽及各種溶劑的腐蝕,惰性瓷球大量應用于石油、化工、化肥及環(huán)保等行業(yè)。在瓷球中因為不同的形態(tài)和不同形狀的粉末粒子在許多領域的氧化鋁產(chǎn)品應用性能表面積小,堆積密度較大,流動性好,所以大大提高產(chǎn)品的應用性能,具體表現(xiàn)如下:1、耐磨瓷球具有良好的壓制成型和燒結特性,對于制得高質(zhì)量的陶瓷制品極為有利。惰性瓷球作為反應器內(nèi)催化劑的支撐和覆蓋材料,可緩沖進入反應器內(nèi)液體和氣體對催化劑的沖擊,保護催化劑,并提高反應器內(nèi)液體和氣體的分布。

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