磁控方箱生產線介紹

用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備?！　?

主要由真空室系統(tǒng)濺射室、靶及電源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、計算機控制系統(tǒng)及輔助系統(tǒng)等組成。　

技術指標：　　極限真空度6.7×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S；　　恢復真空時間：40分鐘可達6.6×10 Pa（短時間暴露　　大氣并充干燥氮氣后開始抽氣）　　

鍍膜方式：磁控靶為直靶，向下濺射成膜；　　樣品基片: 負偏壓 -200V　　

樣品轉盤：在基片傳輸線上連續(xù)可調可控，在真空下可輪流任意靶位互換工作。樣品轉盤由伺服電機驅動，計算機控制其水平傳遞；　　

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)，計算機控制系統(tǒng)的功能：對位移和樣品公轉速度隨時間的變化做實時采集，對位移誤差進行計算，以曲線和數(shù)值顯示。樣品公轉速度對位移曲線可在線性和對數(shù)標度兩種顯示之間切換，可實現(xiàn)換位鍍膜。

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線列式磁控生產線

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產、銷售磁控濺射產品，我們?yōu)槟治鲈摦a品的以下信息。

采用先進的in-line產線結構，Twin-Mag孿生陰極磁控濺射技術，并配以全自動控制系統(tǒng)、先進的真空系統(tǒng)，可在玻璃襯底上鍍制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各類絕緣介質薄膜、金屬或合金薄膜，并可連續(xù)濺鍍多種不同材質的薄膜構成復合多膜層結構，適合大規(guī)模光學、電學薄膜的生產，做到一機多用具有高能效、高可靠性、低成本的優(yōu)勢。磁控濺射介紹以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，今天我們來分享磁控濺射產品的相關內容，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

     本產品可廣泛應用于觸摸屏ITO鍍膜、LCD顯示屏ITO鍍膜、薄膜太陽能電池背電極及AZO鍍膜、彩色濾光片鍍膜、電磁屏蔽玻璃鍍膜、AR鍍膜、裝飾鍍膜等產業(yè)領域。

自動磁控濺射系統(tǒng)有哪些特點？

自動磁控濺射系統(tǒng)產品特點：

不銹鋼腔體

晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

帶觀察視窗的腔門易于上下的載片

基于LabView軟件的PC計算機控制

帶密碼保護功能的多級訪問控制

完全的安全聯(lián)鎖功能

預真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片

小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)簡介

小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)適合于快速濺射鍍膜科研、教學與小批量打樣，可快速、低成本的制備多種微納米厚度的膜層。

具有一體化、占用空間小、靈活的特點，無需380V工業(yè)電，無需額外冷水機，采用無油干泵分子泵組，無需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染。

保證設備具有優(yōu)異的質量與穩(wěn)定可靠性。觸摸屏控制界面，帶來簡單、操作方便的體驗。

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