顏料超精細研磨必備設(shè)備

顏料超精細研磨必備設(shè)備納米砂磨機 顏料的超細機械粉碎法：顏料超細化一般使用的是超細粉碎法（也叫超細研磨法）。這種方法主要是通過對有機顏料的粒子進行超精細的研磨、剪切，使顏料的粒子均質(zhì)化的分布，要想有機顏料在水中有良好的穩(wěn)定性，必須要具備三個條件就是：潤濕、穩(wěn)定以及固液分離。 一、潤濕---顧名思義就是將顏料完全浸潤，去除粒子聚集體中的空氣和雜質(zhì)。 二、分離---是指將抱團的物料解聚成均勻較小的粒子后的一個重要步驟，而非將顏料晶體研磨成更小粒度的粒子。要想分離的效果好，就要提高納米砂磨機(顏料砂磨機)的剪切力。一般說來，剪切力越高，顏料分離的速度越快，分離效果越好。常用的顏料分離機械有納米砂磨機(顏料砂磨機)、球磨機和高速分散機等。超細顏料的穩(wěn)定化是影響整個粉碎分散過程的關(guān)鍵。 顏料的超精細研磨必須選擇適當?shù)姆稚⒔橘|(zhì)和分離設(shè)備，超細粉碎法簡單可行，只要具備常規(guī)的研磨分散設(shè)備，如納米砂磨機（顏料砂磨機）球磨機、超微粉碎機和適當?shù)姆稚纯芍频迷谒橘|(zhì)中均勻分散的有機顏料粒子。我公司生產(chǎn)的納米砂磨機（顏料砂磨機）能將顏料超精細研磨細度達到數(shù)十納米。

液壓升降藍式研磨機產(chǎn)品特點

液壓升降藍式研磨機產(chǎn)品特點 研磨效率很高，產(chǎn)品細度好 強大的動能驅(qū)動氧化鋯撥桿使腔體內(nèi)的研磨介質(zhì)產(chǎn)生不規(guī)則運動，相互之間高速碰撞、摩擦，使粉料粒徑快速變??；研磨細度普遍可達5um左右，部分產(chǎn)品可達亞微米甚至納米級。 操作方便、安全 設(shè)備通過油缸作為升降執(zhí)行器，通過油泵控制研磨裝置上升、停止、下降，操作簡單、穩(wěn)定；帶有不同形式的抱夾裝置，可以快速將研磨桶固定，防止桶在工作中發(fā)生位移造成安全事故。溫升小，產(chǎn)品穩(wěn)定所配料桶帶雙層冷卻夾套，在設(shè)備運行時通水冷卻，起到很好的冷卻效果，常規(guī)溫升小于10?；可以定制研磨腔體帶冷卻。 非標性強 液壓升降籃式研磨機電機運轉(zhuǎn)帶動撥桿和底部分散盤高速旋轉(zhuǎn)，使分散盤上部及籃腔內(nèi)部形成真空，漿料被吸入籃式研磨腔內(nèi)。撥桿驅(qū)動腔內(nèi)的研磨介質(zhì)產(chǎn)生向各個方向的力，物料中的顆粒受到介質(zhì)不斷地碰撞及摩擦，粒徑變小，粒徑范圍變窄；分散盤的高速運轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流將腔內(nèi)物料抽吸出來，再循環(huán)至進料，具有非常顯著的分散混合效果，通過液壓泵工作驅(qū)動液壓柱塞升降，帶動整個傳動機構(gòu)和研磨裝置升降。

淺析硅片拋光機的兩種拋光方式

淺析硅片拋光機的兩種拋光方式 硅片拋光機如何解決這個矛盾的的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應(yīng)當盡可能??；其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到。 硅片拋光機不是碾除整體的糠層，是通過碾除細微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉細粒，拋光機拋光和碾白從工作方面比較存在著很大的差別，拋光機拋光壓力很低，拋光機拋光米粒的時候流體密度很小，拋光時米粒離開鐵輥的速度很快，而且拋光機單位產(chǎn)量拋光運動面積很大。

研磨維修中常用磨料的知識介紹

研磨維修中常用磨料的知識介紹 就研磨機而言，其種類有很多，比較常用的有研磨動力頭、單圓盤研磨機、雙圓盤研磨機、方板的平面研磨機、量面研磨機、球面研磨機、球磨機、滾針研磨機、玻璃研磨機、中心孔研磨機、無心式研磨機、齒輪研磨機以及振動拋光機等。在研磨維修中常用磨料有哪些以及要注意哪些事項？ 各種磨料具有不同的特性，機械密封件研磨研磨密封環(huán)常用磨料的有： ①機械密封件研磨之氧化鋁系列氧化鋁系列磨料有白色的結(jié)晶的純氧化鋁（AI203）俗稱百剛玉，（Cr203）稱為鉻剛玉，常用的是百剛玉，初研時采用百剛玉和碳化硼，粒度在W14-W40，半精研用W14－W7,精研用W5-W1 ②機械密封件研磨之炭化物系主要有純炭化硅（Sic）為綠色，當有微量元素時為黑色，還有炭化硼（BC）為黑色硬度超過炭化硅而低于金剛石。還有金剛石系。正確選擇磨料非常重要，根據(jù)修磨的工件的硬度來選擇磨料。機械密封件研磨之磨料的硬度決定加工密封環(huán)的速度和表面粗糙度。常用的是，百剛玉和碳化硼。初研時采用粒度在W14-W40，半精研用W14－W7,精研用W5-W1。