反射膜一般可分為兩類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質反射膜。此外，還有將兩者結合的金屬電介質反射膜，功能是增加光學表面的反射率。金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層，組成金屬電介質反射膜。需要指出的是，金屬電介質射膜增加了某一波長(或者某一波區(qū))的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。


鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。光學鍍膜在沉積過程中，每一層的厚度均由光學或石英晶體監(jiān)控。這兩種技術各有優(yōu)缺點，這里不作討論。其共同點是材料蒸發(fā)時它們均在真空中使用，因而，折射率是蒸發(fā)材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。光學鍍膜基本原理光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。摩托車頭盔光學鍍膜報價


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