光譜膜厚儀產(chǎn)品介紹【一六儀器】

發(fā)布時間：2021-01-14 13:15

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一六熒光測厚儀十年以上研發(fā)團隊集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U) 厚度分析范圍:各種元素及有機物

一次可同時分析:23層鍍層,24種元素厚度檢出限:0.005um

用轉(zhuǎn)移法測量塑膠產(chǎn)品上涂層時注意事項：

由于對塑膠產(chǎn)品上涂層的測量，如使用超聲波發(fā)測量時，經(jīng)常因涂層與基材發(fā)生相溶而沒有較好的聲波反射面，從而導(dǎo)致測量失敗或讀值嚴重偏差。如使用切鍥法，也多有使用不方便和讀數(shù)困難的地方。所以目前便攜式電子產(chǎn)品生產(chǎn)廠普遍使用轉(zhuǎn)移法測量塑膠產(chǎn)品上涂層，先在產(chǎn)品上蓋若干小條標準厚度的聚酯薄膜，再用紙基美紋膠壓住兩頭，留出中間部分。江蘇一六儀器X射線熒光鍍層測厚儀儀器簡介XTU系列測厚儀雖然結(jié)構(gòu)緊湊，但是都有大容量的開槽設(shè)計樣品腔，即使超過樣品腔尺寸的工件也可以測試。將該產(chǎn)品放入噴涂線上正常噴涂、烘烤。

一六儀器專業(yè)測厚儀多道脈沖分析采集,先進EFP算法 X射線熒光鍍層測厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1～104的原子層或分子層。在此方向上，薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。

理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的，其他的兩維方向具有宏觀大小。所以，表示薄膜的形狀，一定要用宏觀方法，即采用長、寬、厚的方法。因此，膜厚既是一個宏觀概念，又是微觀上的實體線度。

由于實際上存在的表面是不平整和連續(xù)的，而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要嚴格地定義和測量薄膜的厚度實際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測量的方法和目的來決定。

經(jīng)典模型認為物質(zhì)的表面并不是一個抽象的幾何概念，而是由剛性球的原子（分子）緊密排列而成，是實際存在的一個物理概念。

形狀膜厚：dT是接近于直觀形式的膜厚，通常以um為單位。dT只與表面原子（分子）有關(guān)，并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響；

質(zhì)量膜厚：dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少，通常以μg/cm2為單位，它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響（如缺陷、、變形等）；

物性膜厚：dP在實際使用上較有用，而且比較容易測量，它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無直接關(guān)系，主要取決于薄膜的性質(zhì)（如電阻率、透射率等）。

江蘇一六儀器 XTU系列 XTU-BL X熒光光譜儀

儀器規(guī)格：

外形尺寸：550 mm x 660mm x 470 mm （長x寬x高）

樣品倉尺寸：500mm×660 mm ×215mm （長x寬x高）

儀器重量：55kg

供電電源：交流220±5V

功率：330W

環(huán)境溫度：15℃-30℃

環(huán)境相對濕度：<70%

EDX是借助于分析試樣發(fā)出的元素特征X射線波長和強度實現(xiàn)的，根據(jù)不同元素特征X射線波長的不同來測定試樣所含的元素。通過對比不同元素譜線的強度可以測定試樣中元素的含量。通常EDX結(jié)合電子顯微鏡使用，可以對樣品進行微區(qū)成分分析。

常用的EDX探測器是硅滲鋰探測器。當(dāng)特征X射線光子進入硅滲鋰探測器后便將硅原子電離，產(chǎn)生若干電子-空穴對，其數(shù)量與光子的能量成正比。利用偏壓收集這些電子空穴對，經(jīng)過一系列轉(zhuǎn)換器以后變成電壓脈沖供給多脈沖高度分析器，并計數(shù)能譜中每個能帶的脈沖數(shù)。江蘇一六儀器X射線熒光光譜測厚儀產(chǎn)品配置X光金屬鍍層測厚儀標準配置為：X射線管，正比計數(shù)器﹨半導(dǎo)體探測器，高清攝像頭，高度激光，信號檢測電子電路。

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