佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：

本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入氣體單位之前本身的單位漏率，漏率越大，進入爐內(nèi)的雜氣就越多，不管真空度多高，這會嚴重影響鍍膜過程中爐內(nèi)氣氛的純度和工件表面的潔凈度，會破壞膜層的結(jié)合力和膜層顏色的純度。

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烘烤溫度：真空室抽氣時烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空氣和水氣，這是保證膜色調(diào)純正的重要因素之一。要注意的是，我們的設(shè)備一般采用加熱棒烘烤，以熱電偶測溫，熱電偶的感溫端位置不能靠近發(fā)熱棒，否則不能反映爐內(nèi)環(huán)境和工件的實際溫度。

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時等離子體密度也減弱，動能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差

輝光清洗：對工件施加負偏壓，產(chǎn)生輝光放電，利用ya離子轟擊工件表面，這種輝光放電清洗作用比較柔和，一般采取由弱到強的轟擊清洗順序，是怕工件太臟時一開始就強轟擊，可能產(chǎn)生強烈的打火而損傷工件。