鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，大多數(shù)金屬的反射率都可達(dá)到78%~98%，但不可高于98%。無論是對(duì)于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、chen化jia、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學(xué)元件材料，還是對(duì)于YAG激光采用普通光學(xué)玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學(xué)元件材料，都不能達(dá)到全反射鏡的99%以上要求。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍膜室壁上單分子層所吸附的分子數(shù)Ns與氣相中分子數(shù)N的比值近似值。通常在常用的高真空系統(tǒng)中，其內(nèi)表面上所吸附的單層分子數(shù)，遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過氣相中的分子數(shù)。因此，除了蒸發(fā)源在蒸鍍過程中所釋放的氣體外，在密封和抽氣系統(tǒng)性能均良好和清潔的真空系統(tǒng)中，若氣壓處于10-4Pa時(shí)，從真空室壁表面上解吸出來的氣體分子就是真空系統(tǒng)內(nèi)的主要?dú)怏w來源。真空下室壁單分子層所吸附的分子數(shù)與氣相分子數(shù)之比分子數(shù)與氣相分子數(shù)A-鍍膜室的內(nèi)表面積，cm2;V-鍍膜室的容積，cm3;ns-單分子層內(nèi)吸附分子數(shù)，個(gè)/cm2;n-氣相分子數(shù)，個(gè)/cm3 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

薄膜的成膜過程，是一個(gè)物質(zhì)形態(tài)的轉(zhuǎn)變過程，不可避免地在成膜后的膜層中會(huì)有應(yīng)力存在，對(duì)于多層膜來說有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應(yīng)力是有所不同的，有的是張應(yīng)力、有的是壓應(yīng)力，還有膜層及基片的熱應(yīng)力。

應(yīng)力的存在對(duì)膜強(qiáng)度是有害的，輕者是膜層耐不住摩擦，重者，造成膜層的龜裂或網(wǎng)狀細(xì)道子。

對(duì)于減反膜，由于層數(shù)不多，應(yīng)力一般體現(xiàn)不明顯，（但有些硝材的鏡片即便是減反膜也有應(yīng)力問題存在。）而層數(shù)較多的高反膜、濾光膜，應(yīng)力是一個(gè)常見的不良因素，應(yīng)特別注意。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制