真空鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機、測距儀、以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等。它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

一般光學(xué)儀器中的光學(xué)系統(tǒng)都由多個透鏡組成，光線要經(jīng)玻璃界面，會有相當(dāng)多的光線被反射掉，透過的光線很少，影響光學(xué)儀器的光學(xué)效果。為了減少反射損耗，增大光線的透過率，往往在玻璃表面沉積增透膜來提高光的透過率。反射膜與增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或幾乎全部反射回去。例如：光學(xué)儀器、激光器、波導(dǎo)管、汽車和燈具的反射鏡都需要鍍反射膜。反射膜有金屬膜和介質(zhì)膜兩種。鍍制金屬高反射膜常用的材料有鋁、銀、金、銅等。為了提高金屬膜表面的抗擦損能力，往往在表面鍍一層保護(hù)膜，如SiO/SiO2/Al2O3。

在激光器和多光束干涉儀反射鏡上，一般沉積低吸收、高反射的全介質(zhì)反射膜。其結(jié)構(gòu)是在基片上交替沉積光學(xué)厚度為λ/4的高、低折射率材料的膜層。

鍍膜機能鍍出不同顏色的不銹鋼產(chǎn)品嗎

不同的顏色，用不同的工藝和不同的耙材，比如常見的槍色，我們一般選擇用鈦耙或者鉻耙，鈦耙做出來的顏色老，鉻耙做出來的顏色嫩，黑色的我們一般用鈦柱耙或者鉻柱耙。

如果膜層出來掉色的現(xiàn)象，個分析工藝是否正確，第二個分析前處理清洗是否徹底，純水值是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)要求，第三個分析真空爐是否有泄漏。原因大概就這三個。如果顏色出現(xiàn)變色，分析掛具的產(chǎn)品是否在有效的濺射范圍內(nèi)，第二分析工藝是否應(yīng)該調(diào)整。

退鍍這一塊也是根據(jù)不同的工藝，偏壓的大小，不同的耙材所鍍的顏色來分析應(yīng)該如何來正確的退鍍，用鈦耙鍍出來的顏色。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質(zhì)量，還會產(chǎn)生。所以在生產(chǎn)中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴(yán)格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經(jīng)常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴散泵返油對玻璃的污染。同時可適當(dāng)提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì)，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是與電場垂直的水平磁場強度B，因為水平磁場強度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數(shù)值。而實際生產(chǎn)過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產(chǎn)生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗證。