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發(fā)布時(shí)間:2020-11-02 07:42  
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簡(jiǎn)單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下,能夠用光的干與理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時(shí),在它的兩個(gè)表面上發(fā)作屢次反射和折射,反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確認(rèn)(見光在分界面上的折射和反射)。
可以預(yù)見,隨著真空技術(shù)和材料技術(shù)的發(fā)展以及鋼鐵行業(yè)對(duì)發(fā)展新型鋼材的迫切要求,帶鋼真空鍍膜必將成為帶鋼表面處理的一種重要的工藝技術(shù),具有良好的發(fā)展前景。它為發(fā)展新型帶鋼材料提供了一個(gè)重要手段。
相對(duì)于傳統(tǒng)的電解鍍,熱浸鍍來說,真空鍍膜的主要特點(diǎn)是:不使用有害氣體、液體,對(duì)環(huán)境無不利影響。在當(dāng)前越來越重視環(huán)保的大趨勢(shì)下,這點(diǎn)極其可貴。