利用新納米技術開發(fā)的功能金屬氧化物薄膜材料（Functional Thin-Film metal-Oxides Materials，具有優(yōu)良的電磁傳導、物理化學和機械性能，可廣泛應用于節(jié)能照明、顯示電子、化合物檢測、柔性透明和氣體傳感等領域，具有開啟后硅基半導體電子新時代的巨大潛力。歐盟第七研發(fā)框架計劃（FP7）提供980萬歐元資助，總研發(fā)投入1340萬歐元，由歐盟8個成員國德國（總協(xié)調(diào)）、英國、意大利、比利時、荷蘭、葡萄牙、希臘和斯洛文尼亞，微納米電子工業(yè)界聯(lián)合科技界組成的歐盟微納米電子技術平臺（ORAMA ETP）。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，也就是我們俗稱的真空鍍膜。在建立緊密合作型研發(fā)創(chuàng)新公私伙伴關系（PPP）的同時，將長期致力于功能金屬氧化物薄膜材料的研制開發(fā)及商業(yè)化推廣應用?！?

鍍膜前的準備工作

①清潔真空鍍膜室。用吸塵器將真空鍍膜室清潔一遍。當經(jīng)過多次鍍膜時，真空鍍膜室的內(nèi)襯板還需作定期清洗，一般是半個月清洗一次。

②檢查電弧蒸發(fā)源。工作前，要確保電弧蒸發(fā)源發(fā)源安裝正確，絕緣良好，引弧針控制靈活,程合適，恰好能觸及陰極表面。

③檢查工件架的絕緣情況。工件架與地之間的絕緣必須須良好，負偏壓電源與工件架的接觸點點必須接觸良好。

以上幾項工作確保沒有問題后，才可以關閉真空鍍膜室的門，進行抽氣和鍍膜。

真空鍍膜的方法很多，計有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。Parylene在電子產(chǎn)品領域的優(yōu)點:惡劣環(huán)境下線路板保護涂層，列入美軍標MIL-I-46058C。(4)離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。

Parylene特別適合用于鐵氧體材料(磁環(huán)、磁芯)等電子組件的鍍膜，鍍膜后的電子組件其涂膜附著力強、耐磨性好、硬度高、抗高電壓絕緣性強，漆膜外觀細膩均勻、柔滑、觸感極 佳。耐漆包線的繞線性強，漆膜不裂傷。同時可以增加鐵氧體等磁性材料的介電性及耐高壓性能，可以克服普通環(huán)氧樹脂噴涂處理后不耐酸、磨等方面的缺陷。納米鍍膜機的工藝流程，塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。Parylene 涂層能在磁性材料表面形成均勻一致的絕緣防護涂層！