頭部集成了薄膜厚度測量所需功能

通過顯微光譜法測量高i精度絕i對反射率（多層膜厚度，光學(xué)常數(shù)）

1點(diǎn)1秒高速測量

顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外）

區(qū)域傳感器的安全機(jī)制

易于分析向?qū)?，初學(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析

獨(dú)立測量頭對應(yīng)各種inline客制化需求

支持各種自定義

測量項(xiàng)目：

絕i對反射率測量

多層膜解析

光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）

大塚電子（蘇州）有限公司主要銷售用于光學(xué)特性評價?檢查的裝置。其裝置用于在LED、 OLED、汽車前燈等的光源?照明產(chǎn)業(yè)以及液晶顯示器、有機(jī)EL顯示器等平板顯示產(chǎn)業(yè)以及其相 關(guān)材料的光學(xué)特性評價?檢查。歡迎新老客戶來電咨詢！

使用顯微光譜法在微小區(qū)域內(nèi)通過絕i對反射率進(jìn)行測量，可進(jìn)行高i精度膜厚度/光學(xué)常數(shù)分析。

可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學(xué)材料和多層膜。 測量時間上，能達(dá)到1秒/點(diǎn)的高速測量，并且搭載了即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學(xué)常數(shù)的軟件

彩色抗蝕劑（RGB）的薄膜厚度測量[FE - 0003]

液晶顯示器的結(jié)構(gòu)通常如右圖所示。 CF在一個像素中具有RGB，并且它是非常精細(xì)的微小圖案。 在CF膜形成方法中，主流是采用應(yīng)用在玻璃的整個表面上涂覆基于顏料的彩色抗蝕劑，通過光刻對其進(jìn)行曝光和顯影，并且在每個RGB處僅留下圖案化的部分的工藝。 在這種情況下，如果彩色抗蝕劑的厚度不恒定，將導(dǎo)致圖案變形和作為濾色器導(dǎo)致顏色變化，因此管理膜厚度值很重要。

考慮到表面粗糙度測量的膜厚值[FE-0007]

當(dāng)樣品表面存在粗糙度（粗糙度）時，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模擬為“粗糙層”，可以分析粗糙度和膜厚度。此處示例了測量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況。