真空鍍膜機(jī)鍍前預(yù)處理和鍍后處理方法

一、鍍前預(yù)處理

鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面，為后獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備，要進(jìn)行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作。

步驟如下：

一：使表面粗糙度達(dá)到一定要求，可通過表面磨光、拋光等工藝方法來實現(xiàn)；

二：去油脫脂，可采用溶劑溶解以及化學(xué)、電化學(xué)等方法來實現(xiàn)；

三：除銹，可用機(jī)械、酸洗以及電化學(xué)方法除銹；

四：活化處理，一般在弱酸中侵蝕一定時間進(jìn)行鍍前活化處理。

二、鍍后處理

1、鈍化處理

所謂鈍化處理是指在一定的溶液中進(jìn)行化學(xué)處理，在鍍層上形成一層堅實致密的、穩(wěn)定性高的薄膜的表面處理方法.鈍化使鍍層耐蝕性大大提高并能增加表面光澤和抗污染能力。這種方法用途很廣，鍍Zn、Cu及Ag等后，都可進(jìn)行鈍化處理。

2、除氫處理

有些金屬如鋅，在電沉積過程中，除自身沉積出來外，還會析出一部分氫，這部分氫滲入鍍層中，使鍍件產(chǎn)生脆性，甚至斷裂，稱為氫脆。為了消除氫脆，往往在電鍍后，使鍍件在一定的溫度下熱處理數(shù)小時，稱為除氫處理。

真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

一、真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)：

真空卷繞鍍膜機(jī)由真空罐、真空抽氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)及電氣系統(tǒng)組成。

真空罐是整臺真空鍍膜設(shè)備的主體部件，其結(jié)構(gòu)為圓柱形筒體，左端為圓形封頭封閉，右端的法蘭與卷繞車的大圓板對接實現(xiàn)密封。

外部聯(lián)接抽氣管道，內(nèi)部空間用于在真空狀態(tài)中鍍制產(chǎn)品，分為上下室，上室是基材卷繞室，下室是鋁絲蒸發(fā)鍍膜室。

二、真空鍍膜機(jī)的工作原理：

真空罐的正面中上部裝有可供觀察基材運(yùn)行情況和觀察鍍層質(zhì)量的長方形觀察窗，正面中下部裝有可供觀察送絲情況和蒸發(fā)舟加熱狀態(tài)的長方形觀察窗，同時還裝有可供觀察收料軸、放料軸運(yùn)轉(zhuǎn)狀況的圓形視窗各一個。

真空罐的背面中下部開有一方形的蒸發(fā)鍍膜室抽氣口，尾部圓封頭處開有一圓形的卷繞室抽氣口。真空罐的底部裝有水箱，用于罐體的冷卻，頂部裝有真空測量規(guī)管用于測量真空室內(nèi)的壓力。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能分析研究，為了獲得性能良好的半導(dǎo)體電極Al膜，我們通過優(yōu)化工藝參數(shù)，制備了一系列性能優(yōu)越的Al薄膜。通過理論計算和性能測試，分析比較了真空鍍膜設(shè)備電子束蒸發(fā)與磁控濺射兩種方法制備Al膜的特點。

嚴(yán)格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對于一般的半導(dǎo)體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。

采用真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)，行星機(jī)構(gòu)在沉積薄膜時均勻轉(zhuǎn)動，各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機(jī)構(gòu)的聚焦點在坩堝蒸發(fā)源處，各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。

附著力反映了Al膜與基片之間的相互作用力，也是保證器件經(jīng)久耐用的重要因素。真空鍍膜設(shè)備濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個數(shù)量級。真空鍍膜機(jī)高能量的濺射原子沉積在基片上進(jìn)行的能量轉(zhuǎn)換比蒸發(fā)原子高得多，產(chǎn)生較高的熱能，部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，在基片上形成一層濺射原子與基片原了相互溶合的偽擴(kuò)散層，而且，在真空鍍膜設(shè)備成膜過程中基片始終在等離子區(qū)中被清洗，清除了附著力不強(qiáng)的濺射原子，凈化基片表面，增強(qiáng)了濺射原子與基片的附著力，因而濺射Al膜與基片的附著力較高。

真空鍍膜機(jī)的安裝

真空鍍膜機(jī)應(yīng)安置于清潔而干燥的室內(nèi)。鍍膜工作室的環(huán)境應(yīng)是空氣清潔，設(shè)有空調(diào)設(shè)備，室溫一般在23~25℃之間，相對濕度為60%左右。

工作室溫度太高會影響抽速，溫度太低則機(jī)械泵難以起動。室內(nèi)太潮濕會影響膜層質(zhì)量。

由于大多數(shù)膜料都有不同程度的毒性，當(dāng)鐘罩打開時會飛散在室內(nèi)空氣中，因此在鐘罩附近應(yīng)安裝抽風(fēng)設(shè)備，以便在鐘罩打開時抽掉真空室內(nèi)的有毒氣體與飛揚(yáng)的碎屑。

鍍膜機(jī)應(yīng)裝在靠墻處，但四周應(yīng)留有檢修與操作空間，并有冷卻水源，水壓約為3個大氣壓。鍍膜機(jī)的防振要求不高，無需特殊機(jī)座，但必須安置平穩(wěn)，不應(yīng)有振動。