氧化鎂(MgO)單晶是指MgO含量在99.95%以上，具有極強(qiáng)的耐高低溫（高溫2500℃，低溫-270℃）抗腐蝕性、絕緣性和良好的導(dǎo)熱性和光學(xué)性能、無(wú)色透明的晶體。氧化鎂(MgO)單晶廣泛用于航空、航天、國(guó)1防通訊、醫(yī)1療器械、光學(xué)儀器、等離子電視機(jī)保護(hù)膜蒸發(fā)源等領(lǐng)域。在等離子顯示屏PDP中更是理想的電板保護(hù)膜材料是決定PDP壽命的主要因素，同時(shí)對(duì)PDP的工作性能(亮度和光效記憶容量著火電壓等)有較好影響。

氧化鎂一般情況下是白色粉末，但是氧化鎂晶體，離子晶體，氧是典型的非金屬，鎂是典型的金屬，所以形成的氧化鎂是離子晶體。氧化鎂（MgO）單晶基片廣泛應(yīng)用在多個(gè)薄膜技術(shù)領(lǐng)域中。用于制作磁學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、光學(xué)薄膜和高溫超導(dǎo)薄膜等,也可用于制作移動(dòng)通訊設(shè)備所需的高溫超導(dǎo)微波濾波器等器件。由于氧化鎂良好的電絕緣性和耐腐蝕性等功能特性,可以制成透明陶瓷、發(fā)光品體,催化劑等,同時(shí)它還是二種優(yōu)良的薄膜生長(zhǎng)基質(zhì)材料。

 含氧化鎂80%(重量)以上的粗原料用無(wú)機(jī)酸(硫酸、鹽酸)以摩爾比1:2的比例進(jìn)行溶解,制成無(wú)機(jī)酸的鎂鹽。氧化鎂的熔點(diǎn)在2800°C以上，沸點(diǎn)為3600°C，所以要想得到大尺寸、高純度的氧化鎂單晶，對(duì)原料的選擇和控制要求非常嚴(yán)格。在氧化鎂單晶基片上制造的高溫超導(dǎo)薄膜，其物理性能穩(wěn)定、質(zhì)量?jī)?yōu)越，在眾多高溫超導(dǎo)基片中，大有成為不可取代的選擇。