真空鍍膜技術是一項新興的技術，國際上直到60年代才開始將CVD(化學氣相鍍膜)技術應用到硬質合金工具中。因為這種方法需要在高溫(工藝溫度高于1000oC)下進行，且涂層類型單一，局限性很大，所以在開發(fā)初期還有待改進。金屬真空鍍膜加工廠

、真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面，PVD法歷早采用真空蒸鍍技術。

PVD鍍膜的具體原理是什么? 

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內進行的但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現(xiàn)的，真空電鍍蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。

　鍍膜常用在相機鏡頭、近視、、老花鏡等矯正眼鏡上使用。 　　  鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影；不同顏色的鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，鍍膜尚可延遲鏡片老化、變色的時間。 　

PVD鍍膜的屬性

  金屬外觀 顏色均勻一致 耐久的表面，在各種基本的空氣和直射陽光環(huán)境條件下保持良好外觀。顏色深韻、光亮。

經(jīng)濟，可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時間和成本。使用一塊軟布和玻璃清潔劑即可清潔干凈PVD膜層。

對環(huán)境無害，避免化學和VOC的散發(fā)。

   真空鍍膜就是指在真空下，將某類金屬材料或金屬化合物以液相的方式沉積到原材料表面（一般 是非金屬材質），歸屬于物理學液相沉積加工工藝（PVD）。由于涂層常以金屬材料塑料薄膜，故也稱真空泵金屬化。真空涂層理論也包括在金屬或非金屬表面真空泵蒸發(fā)涂層聚合物和其他非金屬材料多功能塑料薄膜。

   真空鍍膜的作用是各個方面的，這也決策了其運用場所比較豐富。整體而言，真空鍍膜的關鍵作用包含授予被鍍件表面高寬比金屬質感和鏡面玻璃實際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優(yōu)異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導電性實際效果。如腕表機殼鍍仿金黃，機械設備數(shù)控刀片鍍膜等。