玻璃鍍膜武義縣恒緣鈦金廠(chǎng)是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠(chǎng)家，主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據(jù)客戶(hù)的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

恒緣鈦金與您分享鍍膜材料

鍍膜材料一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。一種金屬表面真空和蒸發(fā)鍍膜裝置，包括主殼體、真空室和雙層隔熱板，所述主殼體的底部安裝有底座，所述主殼體的表面安裝有防護(hù)膠套，所述主殼體的頂部安裝有電源按鈕。鍍膜指在基材上形成從數(shù)納米到數(shù)微米的材料層，材料可以是金屬材料、半導(dǎo)體材料、以及氧化物氟化物等化合物材料。鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定鍍出的顏色是否滿(mǎn)足要求。鍍膜的工藝可以簡(jiǎn)略的分為化學(xué)工藝及物理

恒緣鈦金廠(chǎng)將竭誠(chéng)為您提供周到的表面處理加工服務(wù)。歡迎您致電圖片上方的聯(lián)系方式。

恒緣鈦金與您分享在真空鍍膜前要先在塑膠基材表面進(jìn)行底漆UV涂裝的主要原因有以下三點(diǎn)：

1、增加鍍層與塑膠基材表面的附著力

底漆UV涂層對(duì)塑膠基材有著良好的附著力。

底漆UV涂料中的活性稀釋劑對(duì)塑膠基材具有較強(qiáng)的侵蝕能力，活性稀釋劑將塑膠基材輕微溶脹或軟化，這樣涂料固化后在底漆UV與基材介面之間形成了互穿網(wǎng)絡(luò)，可以提高整個(gè)鍍膜層的附著力。

如果直接在塑膠基材表面進(jìn)行真空鍍膜，而不做底漆UV噴涂的話(huà)，因金屬鍍膜層缺少對(duì)塑膠基材的侵蝕力，會(huì)導(dǎo)致鍍膜層與塑膠基材附著不良的現(xiàn)象。

2、封閉基材內(nèi)的殘留物，確保鍍膜質(zhì)量

通過(guò)UV涂層來(lái)封閉基材內(nèi)的塑化劑殘留物、腐蝕性氣體殘留及脫模劑潤(rùn)滑劑等油脂性分子殘留，防止真空鍍膜時(shí)或工件使用過(guò)程中基材中的這些揮發(fā)性雜質(zhì)溢出，影響鍍膜質(zhì)量。

基材中如有揮發(fā)性雜質(zhì)釋放會(huì)使鍍鋁膜層發(fā)彩、變色、氧化、發(fā)黑等，影響真空電鍍的金屬質(zhì)感和外觀效果。

3、提高基材表面平整度，確保鏡面鍍膜效果

一般來(lái)說(shuō)，塑料表面本身具有0.51nm左右的粗糙度，真空鍍膜的厚度不超過(guò)0.2μm，無(wú)法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面反射效果。而底漆UV涂層的厚度一般達(dá)到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，涂裝UV底漆后可填平塑膠基材表面的缺陷并得到理想的真空鍍膜金屬光澤效果。首先，膜層出現(xiàn)這種問(wèn)題的情況有四種：一：氣泡大，不規(guī)則，這種一般是因?yàn)殇\合金真空鍍膜產(chǎn)品清洗不干凈，表面受到污染而成。

恒緣鈦金與您分享分享過(guò)程中影響膜均勻性的因素有哪些

薄膜均勻性的概念：

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。PVD鍍膜膜層的厚度—PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

2.化學(xué)組分上的均勻性：就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。恒緣鈦金與您分享真空鍍膜技術(shù)真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。

3.晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題，具體見(jiàn)下。

主要分類(lèi)有兩個(gè)大種類(lèi)：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等