鍍膜過程中產生噴點主要有以下幾種原因:

1、鍍膜材料純度不高，含雜質較多,預熔過程中無法將這些雜質去除,蒸鍍過程中雜質濺上工件表面形成噴點。

2、材料較為潮濕,預熔時電子槍光斑不能將表面的材料全部熔化,在蒸鍍過程中也容易產生噴點(這種情況在用國產電子槍鍍制MgF2及一些直接升華的材料時較易發(fā)生)。

3、鍍膜前對材料進行預熔時不夠充分,蒸鍍過程中材料里的細小顆粒濺上工件表面形成噴點。

4、鍍膜過程中,電子槍束流過大引起的材料飛濺產生的噴點。

真空抽氣系統(tǒng)的結構與工作原理

高真空卷繞鍍膜機的真空抽氣系統(tǒng)由卷繞室抽氣機組和鍍膜室抽氣機組組成。

卷繞室抽氣機組由1臺油增壓泵、2臺羅茨泵、1臺滑閥泵和1臺旋片泵組成，油增壓泵作為主泵，以保證在達到10-1Pa的工作壓力下有較大的抽氣速率；

鍍膜室抽氣機組由1臺油擴散泵、1臺羅茨泵、1臺滑閥泵和1臺旋片泵組成，油擴散泵作為主泵，以保證鋁絲蒸發(fā)所需的10-2Pa真空狀態(tài)。

真空抽氣系統(tǒng)由可編程PLC集中控制，在液晶觸摸屏上進行操作，分為自動控制和手動控制兩種模式。正常操作使用自動模式，PLC將根據在真空計中設定的各級真空值對各臺真空泵的啟動或停止、閥門的開啟或關閉等功能實現(xiàn)自動控制。手動控制模式主要供調試和檢修時使用，可以實現(xiàn)單獨開閉各泵和閥門的操作。

真空管道上的閥門均為氣動控制閥，并采用電磁換向閥控制其開啟或關閉，閥門上的氣缸配有位置信號開關，方便控制系統(tǒng)對閥門的狀態(tài)實施監(jiān)控。

在羅茨泵與滑閥泵的連接管道上裝有氣動充氣閥，可供滑閥泵停止時向泵腔內充入大氣之用，其開、閉動作與滑閥泵聯(lián)動，由可編程PLC控制其滯后或提前的時間。

鍍膜室抽氣方閥上裝有氣動放氣閥，供卷繞結束時卷繞車退出前向真空室內充入大氣之用，其開啟動作和時間長短由可編程PLC控制。

各個真空管道上裝有真空測量規(guī)管座以提供可編程PLC和真空計所需的真空壓力信號，同時為維修、檢測真空系統(tǒng)各管道的壓力提供方便。

pvd裝飾鍍膜有哪些優(yōu)點?

pvd裝飾鍍膜有哪些優(yōu)點？ PVD鍍膜(離子鍍膜)技術的主要特點和優(yōu)勢—和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點： A.膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨B.離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件0v R0S4C.膜層沉積速率快，生產D.可鍍膜層種類廣泛E.膜層性能穩(wěn)定、安全性高(獲得FDA認證). 鍍膜設備鍍出的產品掉膜是怎么回事?一、產品表面潔凈度不夠，離子源清洗氣放大時間長點。二、清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。三、工藝參數是否有變動在膜厚和電流上可以做點調整。

真空鍍膜設備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法

真空鍍膜設備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法 真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內，真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。 多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。