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發(fā)布時(shí)間:2021-01-15 13:02  
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PLD450型脈沖激光鍍膜介紹
沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專(zhuān)業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。
主要用途:
用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專(zhuān)院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備?! ?
系統(tǒng)組成:
主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成?! ?
脈沖激光沉積介紹
脈沖激光沉積也被稱(chēng)為脈沖激光燒蝕(pulsed laser ablation,PLA),是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊,然后將轟擊出來(lái)的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。
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