控制好系統(tǒng)張力，開啟冷卻系統(tǒng)，避免薄膜受熱出現(xiàn)拉伸變形；精準(zhǔn)控制卷取速度、送鋁速度及蒸發(fā)舟加熱電流，以獲得產(chǎn)品要求的鋁層厚度；可預(yù)先在薄膜上涂布一定干量的底膠，并充分干燥，再經(jīng)真空鍍鋁，可提高鋁層與薄膜的結(jié)合力。而后在鋁膜上涂布一定量的保護樹脂，防止鋁層氧化變質(zhì)。經(jīng)此工藝形成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易變質(zhì)。


真空鍍膜主要利用輝光放電將ya氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的亞氣離子化, 造成靶與亞氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電將亞氣離子撞擊靶材表面。


鏡片表面鍍有多層減反射膜后，鏡片特別容易產(chǎn)生污漬，而污漬會破壞減反射膜的減反射效果。在顯微鏡下，我們可以發(fā)現(xiàn)減反射膜層呈孔狀結(jié)構(gòu)，所以油污特別容易浸潤至減反射膜層。解決的方法是在減反射膜層上再鍍一層具有抗油污和抗水性能的頂膜，而且這層膜必須非常薄，以使其不會改變減反射膜的光學(xué)性能。真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鋼化玻璃鏡片的表面，同時在蒸發(fā)過程中，對鍍膜材料的化學(xué)成分能嚴(yán)密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀拥暮穸染珳?zhǔn)控制，精度達(dá)到。

隨著鍍膜技術(shù)的快速增長，各種類型的真空鍍膜機也開始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響，現(xiàn)在我們就濺控濺射鍍膜機來看看造成不均勻的因素有哪些。

對此，真空鍍膜機廠家指出，它的運作原理其實很簡單。就是通過真空狀態(tài)下正交磁場使電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。