脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。

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脈沖激光沉積簡介

隨著現(xiàn)代科學和技術(shù)的發(fā)展，薄膜科學已成為近年來迅速發(fā)展的學科領(lǐng)域之一，是凝聚態(tài)物理學和材料科學的一個重要研究領(lǐng)域。連續(xù)激光的輸出功率一般都比較低，適合于要求激光連續(xù)工作（如激光通信、激光手術(shù)等）的場合。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不僅具有豐富的物理內(nèi)涵，而且在微電子、光電子、超導材料等領(lǐng)域具有十分廣泛的應(yīng)用。長期以來，人們發(fā)明了多種制膜技術(shù)和方法：真空蒸發(fā)沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機化學氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點，并在一些領(lǐng)域得到應(yīng)用。但由于其各有局限性，仍然不能滿足薄膜研究的發(fā)展及多種薄膜制備的需要。隨著激光技術(shù)和設(shè)備的發(fā)展，特別是高功率脈沖激光技術(shù)的發(fā)展，脈沖激光沉積（PLD）技術(shù)的特點逐漸被人們認識和接受

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PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)介紹

PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。

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脈沖激光沉積選件介紹

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連續(xù)組成擴展(CCS )

常規(guī)沉積條件下的組合合成

組合合成是一種基于脈沖激光沉積的、組合材料合成的新型連續(xù)組成擴展(CCS) 方法。激光脈沖能做到特別短，譬如“皮秒”級別，就是說脈沖的時間為皮秒這個數(shù)量級——而1皮秒等于一萬億分之一秒。PLD-CCS 系統(tǒng)能以連續(xù)的方式改變材料，沒有必要使用掩模?？梢栽诿恳淮窝h(huán)中，以小于一個單分子層的速率，快速連續(xù)沉積每一種組份，其結(jié)果是基本等同于共沉積法。該法無需在沉積后進行退火促進內(nèi)部擴散或結(jié)晶，對于生長溫度是關(guān)鍵參數(shù)的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是有用的。