PVD鍍膜的具體原理是什么? 

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內進行的但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現(xiàn)的，真空電鍍蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。

 真空鍍膜加工法是在高寬比真空規(guī)范下加溫金屬，使其熔化、蒸發(fā)，制冷后在塑膠表面產(chǎn)生金屬塑料薄膜的方法。常見的金屬是鋁等低溶點金屬。加溫金屬的方法：有運用電阻器形成的動力，也是運用離子束的。

 在對塑料制品實行真空鍍膜加工時，以便保證金屬制冷時需釋放出的發(fā)熱量不使環(huán)氧樹脂形變，必須對蒸鍍時間打開調理。除此之外，溶點、熔點太高的金屬或鋁合金不適宜蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空房間內，選用一定方法加溫待鍍原材料，使金屬蒸發(fā)或升化，金屬蒸氣碰到冷的塑料制品表面匯集成金屬塑料薄膜。

高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器初步、一直到新式建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需求。透水性膜用以拍照和林林總總激光發(fā)生器的起動，直至在建大中型鍍層夾層玻璃，對錯常有必要的。增透膜則很多用于照相機和電視攝象機的鏡頭上。

   在電子學方面真空鍍膜更占有極為重要的位置。各種設計的承繼電路。包含存貯器、運算器、奉告邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（CCD）也都甬道各種薄膜。