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發(fā)布時間:2021-09-20 09:07  
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1、蝕刻:利用蝕刻液與銅層反應,蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。
2、曝光:經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉移到感光底板(即PCB)上。

曝光顯影工藝就是指利用物質這一特點,由高精度紫外平行光源通過掩膜版對涂有特定吸收波長的油墨進行紫外光照射,然后通過化學去除多余涂層,從而達到圖形轉印的過程稱之為曝光顯影工藝。
曝光顯影技術優(yōu)勢:
1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題;
2、圖形轉印技術單層、多層套印精度高;
3、霧化噴涂確保厚度均一性,提高致密性,降低油墨厚度;
4、采用圖形轉印技術,良率較高;
5、4-6寸蓋板單制程產(chǎn)能優(yōu)勢明顯;
6、較薄的油墨利于貼合,提高制程整體良率。
曝光顯影,在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下,色粉被吸附在感光鼓上。公司堅持以科技創(chuàng)新為主導,以滿足客戶不斷需求為已任,奉行以誠為先,,客戶至上,質量好的管理方針,以的服務的品質贏得客戶的信賴及好評。靜電潛像電位越高的部分,吸附色粉的能力越強;靜電潛像電位越低的部分,吸附色粉的能力越弱。對應靜電潛像電位(電荷的多少)的不同,其吸附色粉量也就不同。多用在模擬復印機中。反轉顯影中,感光鼓與色粉電荷極性相同。顯影時,通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用,碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數(shù)碼復合機與激光打印機中。保溫杯曝光顯影工藝