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發(fā)布時(shí)間：2021-01-07 09:14
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?單體3，4-乙撐二氧噻吩(EDOT)的合成情況
合成法產(chǎn)率低，成本高。改進(jìn)或找到一種新的合成方法以提高EDOT的產(chǎn)率、降低生產(chǎn)成本是當(dāng)前科研工作者的主要任務(wù)。筆者在合成EDOT的過程中對該方法進(jìn)行了一些改進(jìn)，如引入相轉(zhuǎn)移催化劑和沸石分子篩，提高了EDOT的產(chǎn)率。
前一制備單體EDOT的方法為傳統(tǒng)意義上的”五步合成法”，也是多年來報(bào)道過的唯y方法。該法從工業(yè)角度考慮有幾大缺點(diǎn)，比如需要強(qiáng)堿、高溫，存在致a物質(zhì)(1、2一二xyw)等。2004年4月瑞典科學(xué)家Fredrik von Kieseritzky等提出一種x且有效制備EDOT的方法。但是其方便地添加粒子、更換電解液等，是最適用于大規(guī)模工業(yè)化的一種成膜方法。
該法通過2，3-二甲y基-1，3-丁二烯在正己烷溶劑中、于5~C的條件下與SC1：反應(yīng)制成3，4-二甲y基s吩，然后用對甲bh酸作催化劑與乙二醇反應(yīng)制得EDOT。該法原料價(jià)廉易得、合成簡單、條件溫和、產(chǎn)率高(60％)，非常適合于工業(yè)化生產(chǎn)。這一關(guān)鍵技術(shù)的突破將極大促進(jìn)f吩類導(dǎo)電聚合物的發(fā)展。聚合物(PEDOT)的合成方法介紹自從shirakawaetal發(fā)現(xiàn)了聚乙Q具有高導(dǎo)電率后，導(dǎo)電聚合物這個(gè)領(lǐng)域已引起了科學(xué)家的廣泛興趣。
高導(dǎo)電性涂層材料
用作涂層材料的高導(dǎo)電性Clevios?可將表面電阻降至 100 歐姆/平方。一般來講，聚合物屬絕緣體。但是，有一類特殊聚合物，也即本征導(dǎo)電性聚合物，其導(dǎo)電性介于半導(dǎo)體和金屬之間（從10 - -4 到103 S/cm）。下一步，該團(tuán)隊(duì)將探索更多基于此方法的PEDOT基復(fù)合材料的合成以及相關(guān)器件的制作。兼具金屬與聚合物的特性，給眾多應(yīng)用領(lǐng)域帶來嶄新的發(fā)展機(jī)會，這在電子工業(yè)領(lǐng)域尤為明顯。
Clevios? PH 1000或其即用型配方Clevios? FE-T可用作高導(dǎo)電性涂層。這些材料不僅導(dǎo)電率高，而且具有非同一般的透明度。
結(jié)合諸如 DMSO 或乙二醇等導(dǎo)電增強(qiáng)劑使用Clevios?PH 1000時(shí)，導(dǎo)電率可達(dá)到 900-1000 S/cm（約 200 歐姆/平方）。即用型配方 CLEVIOS? FE-T材料屬于水基物質(zhì)，含有可用于強(qiáng)制干燥的聚酯分散體。
各種涂層配方均在不同濕膜厚度和表面電阻率的條件下，針對諸如 A-PET、PET、聚碳酸酯、玻璃等具體基材經(jīng)過優(yōu)化處理。
可采用標(biāo)準(zhǔn)印刷方法，如狹縫涂布法、柔版印刷、絲網(wǎng)或者凹版印刷制作涂層。也可采用刷涂、噴涂、旋涂或輥涂法。
原位聚合法
原位聚合法是將單體或可溶性預(yù)聚體在基材表面聚合形成導(dǎo)電聚合物膜，主要包括直接聚合法、溶液聚合吸附法、化學(xué)氣相沉積法、氣相沉積聚合法、液相沉降聚合法。原位聚合法是一種極有前景的制作PEDOT對電極的方法，這種方法在制作其他PEDOT材料尤其是光學(xué)材料上得到了廣泛的應(yīng)用，一些xPEDOT薄膜對電極研究中的制膜均采用該方法。聚合物和玻璃上的防靜電涂層：PEDOT/PSS應(yīng)用于PET或其他基材上，可以提供防靜電和電荷轉(zhuǎn)移的性能。
近年來，由于成本低廉和性能優(yōu)異，硅基雜化太陽電池引起了科學(xué)家們的極大研究興趣。然而，柔性硅基雜化太陽電池鮮有報(bào)道。難點(diǎn)在于單晶硅的柔性化。本研究中，我們采用簡單的制備工藝，構(gòu)筑了柔性微米金字塔狀Si/PEDOT:PSS雜化太陽電池。通過四探針測試儀、掃描電鏡、太陽電池測試儀,分別測試了薄膜對電極的方塊電阻、表面形貌及其光電性能。相較于光電轉(zhuǎn)換效率為4%的柔性平板結(jié)構(gòu)Si/PEDOT:PSS太陽電池，柔性微米金字塔狀太陽電池具有更高的光電轉(zhuǎn)化效率，為6.3%。
