鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術性，在真空泵房間內(nèi)原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進被鍍物件的表層上。鍍膜的作用是各個方面的，這也決策了其運用場所比較豐富。整體而言，鍍膜的關鍵作用包含授予被鍍件表層高寬比金屬質感和鏡面玻璃實際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優(yōu)異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導電性實際效果。

真空鍍膜技術性被稱作發(fā)展前景的關鍵技術性之一， 鍍膜企業(yè)并已在高新技術產(chǎn)業(yè)發(fā)展的發(fā)展趨勢中展示出的行業(yè)前景。

在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。薄膜的成膜過程，是一個物質形態(tài)的轉變過程，不可避免地在成膜后的膜層中會有應力存在，對于多層膜來說有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應力是有所不同的，有的是張應力、有的是壓應力，還有膜層及基片的熱應力。

輔助氣體的充入要考慮膜料的放氣，鍍前對膜料充分預熔充分放氣，也可以避免由于蒸鍍中膜料放氣造成真空度過度下降，從而影響膜強度。

物理氣相沉積技術表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。 物理氣相沉積的主要方法有，真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等。發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等。