在芯片制造領(lǐng)域，光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個形象的比喻，光刻機是芯片制造的魂，蝕刻機是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個東西都必須。

而在光刻機方面，與世界的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭，但ASML終究是背后霸主，贏家，因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產(chǎn)光刻機還在路上，目前我國已經(jīng)能夠使用365納米波長的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首臺分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產(chǎn)光刻機可以使用低成本光源，實現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

可以采用滿版印刷、刷涂、滾涂或噴涂的方式，對油墨涂層的均一性要求不是很高，只要能保證涂層能夠在蝕刻時對產(chǎn)品需保護部位得到充分的保護。

此工序和制作網(wǎng)板中的涂布工序差不多，只是制作網(wǎng)板是在網(wǎng)砂上涂感光油墨，而金屬蝕刻是直接在工件表面涂布

熱風(fēng)預(yù)烘干（30-40℃，10-15分）

目的只是防止曝光時感光油墨粘住菲霖。要在暗室中進行操作。

曝光

高壓燈、碘燈、金屬鹵素燈。

時間：二十秒左右，抽真空；根據(jù)工件的精度要求適當調(diào)整曝光時間。精度要求越高，曝光時間要適當縮短

顯影

對于水光油墨，可采用1%碳酸鈉水溶液或直接用清水，溫度25-30℃，手工顯影或噴射顯影。

對于油光油墨，可采用進行手工顯影或噴射顯影。

  蝕刻機

可以分為自動型蝕刻機、激光蝕刻機、化學(xué)蝕刻機及電解蝕刻機。在化學(xué)蝕刻中是使用化學(xué)溶液，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)以達到蝕刻的目的，化學(xué)蝕刻機是將材料用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)；自動型化學(xué)蝕刻機是通過高壓噴淋及被蝕刻板直線運動形成連續(xù)不間斷進料狀態(tài)進行對工件腐蝕以提高生產(chǎn)效率蝕刻機是標牌廠、電鍍廠、銘牌廠等生產(chǎn)高品位標牌、獎牌禮品、飾品、工業(yè)品電蝕刻及反蝕刻精密加工等必備的現(xiàn)代化設(shè)備。

蝕刻機能夠成套組成流水線，亦能夠單機完畢工序，是標牌廠、電鍍廠、銘牌廠等出產(chǎn)高精度高品位標牌、獎牌禮飾品、工業(yè)品電蝕刻及反蝕刻精細加工等必備的現(xiàn)代化設(shè)備。

標牌加工廠需求哪些設(shè)備

咱們見到的每一件產(chǎn)品上都有著自己的標牌，這些形形的標牌意味著標牌加工廠具有廣闊的獲利空間，而依據(jù)標牌的不同種類，能夠?qū)⑵浞譃榻饘儋Y料、木質(zhì)、有機玻璃以及塑料資料等，那么，開辦一家標牌加工廠需求哪些設(shè)備呢？

金屬蝕刻機,金屬銘牌制作設(shè)備,電鑄標牌設(shè)備,機械標牌制作設(shè)備,刀版蝕刻機,腐蝕標牌制作設(shè)備,不銹鋼板蝕刻機,銘牌蝕刻機,芯片蝕刻機