常用永磁體有釹鐵硼磁體。即磁體是通過粉末冶金工藝燒結成型的產品，因其中的富釹相、釹鐵硼主體及邊界很容易形成晶間腐蝕，并且稀土元素釹性質活潑，因而使得整個釹鐵硼材料的耐蝕性極差，在潮濕環(huán)境下極易氧化生銹腐蝕。

       目前，常見的釹鐵硼磁體的防腐方法主要有電鍍、磷化、電泳等。但這些常規(guī)電鍍方法普遍存在各種各樣的問題，例如工藝穩(wěn)定性不好，適用范圍較窄，防腐能力不足，設備投資大，運行成本高等問題。

       隨著市場多元化的不斷需求，對于很多企業(yè)來說需要根據(jù)其產品的工序購置不同的機器設備，拿真空鍍膜行業(yè)來說，如果一臺機器就能完成從鍍膜前處理到鍍膜后處理，中間不需要人工干預不需要轉換工序，那么無疑是企業(yè)的香餑餑，在單設備上實現(xiàn)一體化多功能成為了鍍膜設備行業(yè)企業(yè)的共同需求。

       真空鍍膜設備普遍應用于工業(yè)生產，無論是小產品還是大產品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產品，基本上所有需要進行表面處理鍍膜的都需要用到。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發(fā)鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍，在控制技術上，更多的應用先進的計算機技術和微電子技術，使得真空鍍膜設備更具性和智能自動化。

原子層沉積是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應器并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種方法（技術）。當前驅體達到沉積基體表面，它們會在其表面化學吸附并發(fā)生表面反應。在前驅體脈沖之間需要用惰性氣體對原子層沉積反應器進行清洗。由此可知沉積反應前驅體物質能否在被沉積材料表面化學吸附是實現(xiàn)原子層沉積的關鍵。氣相物質在基體材料的表面吸附特征可以看出，任何氣相物質在材料表面都可以進行物理吸附，但是要實現(xiàn)在材料表面的化學吸附必須具有一定的活化能，因此能否實現(xiàn)原子層沉積，選擇合適的反應前驅體物質是很重要的。