304不銹鋼網(wǎng)片蝕刻表面有印跡怎么辦？

首先，要知道為什么會出現(xiàn)這種情況，出現(xiàn)這種情況的原因是什么呢？下面興之揚不銹鋼蝕刻專業(yè)工程師來告訴大家：酸洗溶液氟化物含量不夠；酸洗時間太短；蝕刻溶液失調(diào)；材料質(zhì)量原因；

那么，遇見這種情況要怎么解決呢？添加氟化物；延長酸洗時間；分析蝕刻溶液；更換材料

興之揚電子科技有限公司成立于2010年，是專業(yè)生產(chǎn)加工精密金屬元件的加工制造與貿(mào)易相結(jié)合的工貿(mào)高新科技企業(yè)。公司現(xiàn)擁有先進的自動化光電蝕刻工藝生產(chǎn)線。受長期以來世界稀土金屬供需緊張的影響，積極進行不含鎳的高純鐵素體不銹鋼、低鎳但具高耐蝕性能、高強度的雙相鋼等節(jié)資源、高功能材料的研究開發(fā)，目前已占據(jù)了一定規(guī)模的市場份額。公司擁有6條先進的蝕刻生產(chǎn)線及ISO9001:2008的品質(zhì)管控體系，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于：家電、電子通訊、精密五金、石油化工、精密工程應(yīng)用元件等行業(yè)，能滿足客戶臨時的和超大量的訂單，日蝕刻面積達1500平方米，月生產(chǎn)能力達5000萬只（片），我們有專業(yè)且強大的金屬蝕刻團隊哦，如果您有金屬蝕刻加工需求，以及不銹鋼蝕刻、咖啡機不銹鋼網(wǎng)片、304不銹鋼網(wǎng)片、316不銹鋼網(wǎng)片、蝕刻不銹鋼網(wǎng)片、吸塵器不銹鋼網(wǎng)片、腐蝕不銹鋼網(wǎng)片、金屬蝕刻網(wǎng)片、吹風(fēng)機鋼網(wǎng)片、吹風(fēng)機蝕刻不銹鋼網(wǎng)、SMT蝕刻不銹鋼網(wǎng)、蝕刻電視304不銹鋼網(wǎng)、藍牙音響不銹鋼網(wǎng)罩等蝕刻產(chǎn)品的需求，歡迎聯(lián)系興之揚。

不銹鋼蝕刻過程中的注意事項：

加工區(qū)：不銹鋼件的加工區(qū)域應(yīng)相對固定。不銹鋼件加工區(qū)的平臺應(yīng)采取隔離措施，如鋪上橡膠墊等。不銹鋼件加工區(qū)應(yīng)避免對不銹鋼件的損傷與污染。

下料：不銹鋼件的下料采用剪切或等離子切割，鋸切等。

機械加工：不銹鋼件在車、銑等機械加工時也應(yīng)注意防護，作業(yè)完成時應(yīng)清洗干凈工件表面的油污、鐵屑等雜物。

成型加工：在卷板、折彎過程中，應(yīng)采取有效措施避免造成不銹鋼件表面劃傷和折痕。

304蝕刻不銹鋼帶的介紹方法

304蝕刻不銹鋼帶日本于2003年開端研制的面向市場的200系列不銹鋼，當(dāng)前的首要出產(chǎn)廠家為NTK，其產(chǎn)物按含鎳量的分歧分為NTK-D10，NTK-D9和NTK-D7等商標(biāo)。NTK-D7是一種含鎳量比304低、含錳量比304高并含銅的奧氏體不銹鋼。因為錳的很多參加，鎳含量降低到2%~4%，然則，因為鉻含量為16%~18%，能包管不銹鋼應(yīng)有的耐蝕性，具有和304根本一樣的機械功能和耐侵蝕性。③彈性模量：當(dāng)施加力于單位長度棱住的兩端能引起物體在長度上的單位變化時，單位面積上所需的力稱為彈性模量。NTK-D7的大問題是廢鋼治理。因為NTK-D7鋼沒有磁性，在廢鋼收受接管時很難與304分隔。因而，早年期的運用到廢鋼的分類必需樹立1套科學(xué)的系統(tǒng)治理系統(tǒng)，以處理高錳、高磷、含銅廢鋼的再生問題。

興之揚腐蝕不銹鋼網(wǎng)片小編給大家介紹什么是濕式蝕刻技術(shù)：

早期的蝕刻技術(shù)是利用特定的溶液與薄膜間所進行的化學(xué)反應(yīng)來除薄膜未被光阻覆蓋的部分，而達到蝕刻的目的，這種蝕刻方式也就是所謂的濕式蝕刻。另外印度也公布了大規(guī)模設(shè)備投資計劃，因此有必要對今后世界不銹鋼的供需平衡，特別是對亞洲地區(qū)的供需平衡加以關(guān)注。因為濕式蝕刻是利用化學(xué)反應(yīng)來進行薄膜的去除，而化學(xué)反應(yīng)本身不具方向性，因此濕式蝕刻過程為等向性，一般而言此方式不足以定義3微米以下的線寬，但對于3微米以上的線寬定義濕式蝕刻仍然為一可選擇采用的技術(shù)。

濕式蝕刻之所以在微電子制作過程中被廣泛的采用乃由于其具有低成本、高可靠性、高產(chǎn)能及優(yōu)越的蝕刻選擇比等優(yōu)點。但相對于干式蝕刻，除了無法定義較細的線寬外，濕式蝕刻仍有以下的缺點：1)需花費較高成本的反應(yīng)溶液及去離子水；因此純化學(xué)反應(yīng)性蝕刻擁有類似于濕式蝕刻的優(yōu)點及缺點，即高選擇比及等向性蝕刻。2)化學(xué)藥品處理時人員所遭遇的安全問題；3)光阻附著性問題；4)氣泡形成及化學(xué)蝕刻液無法完全與晶圓表面接觸所造成的不完全及不均勻的蝕刻。