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發(fā)布時(shí)間:2021-01-07 05:11  

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濺鍍法(Sputtering):(1)上平行板:裝載濺鍍金屬的靶材;下平行板:作為濺鍍對(duì)象的玻璃基板。(2)將氣(Ar 2 )通入反應(yīng)艙中形成等離子體;離子(Ar )在電場(chǎng)中被加速后沖撞靶材;受沖擊的靶材原子會(huì)沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。




色彩:物體的色彩來(lái)源于光。其中掩膜版圖形數(shù)據(jù)由用戶(hù)自行設(shè)計(jì)并提交,后續(xù)加工工藝由工程師完成。自然界中絕大部分物體本身是不發(fā)光的,如印刷品、花草、樹(shù)木。它們的顏色是來(lái)自對(duì)太陽(yáng)光譜的色光加以反射或透射而產(chǎn)生的。自然界中光的三原色是紅、綠、蘭,這三種色光不同的組合可組成無(wú)數(shù)種色光;色料的三原色是青、品紅和黃,理論上,此三色顏料不同比例的混合,可得到自然界中1切顏色。







掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。原位芯片目前掌握多種刻蝕工藝,并會(huì)根據(jù)客戶(hù)的需求,設(shè)計(jì)刻蝕效果好且性?xún)r(jià)比高的刻蝕解決方案。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金屬鉻薄膜,通過(guò)類(lèi)似照相制版的方法制備而成。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機(jī)直接制備,其制作過(guò)程就是典型的光刻工藝過(guò)程,包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過(guò)程。