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發(fā)布時間:2020-11-04 02:11  
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若曝光過度,會造成顯影困難,也會在電鍍過程中產(chǎn)生起翹剝離,形成滲鍍。所以,解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間,每種類型的干膜在起用時應(yīng)按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表,級差0.15,以控制6-9級為宜。曝光時間過長。當曝光過度時,紫外光透過照相底片上透明部分并產(chǎn)生折射、衍射現(xiàn)象,照射到照相底片不透明部分下的干膜處,使本來不應(yīng)該發(fā)生光聚合反應(yīng)的該部分干膜,被部分曝光后發(fā)生聚合反應(yīng),顯影時就會產(chǎn)生余膠和線條過細的現(xiàn)象。因此,適當?shù)目刂破毓鈺r間是控制顯影效果的重要條件。