PVD是英文PhysicalVaporDepsition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用真空鍍膜設(shè)備氣體放電使鈦板蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜通常稱謂：金屬表面處理，鍍膜，鍍鈦，真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工，真空鍍膜加工，表面處理等.

色澤永恒的PVD鍍膜PVD鍍膜不同與傳統(tǒng)的電鍍等方式，因為其的性能，高硬度，防磨檫，不剝落，，高度防腐，并且不受紫外線影響，因此，PVD鍍膜不銹鋼是作為一種的裝飾材料被廣泛應用于各種裝飾領(lǐng)域。性能：在烈日下，潮濕及一般的城市環(huán)境中保持。在紫外線下不會脫皮，不剝落，不掉色。1可以在各種紋路，圖案表面上鍍許多顏色。

b.左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。pvd真空鍍膜，離子鍍膜膜層的均與性主要包括成分均勻、組織結(jié)構(gòu)均勻和膜厚均勻，終保證膜層各種性能均勻。材料的性能由其誠分與組織結(jié)構(gòu)所決定，膜層必須獲得所設(shè)計的膜系成分和組織結(jié)構(gòu)均勻一致。薄膜是二維材料，膜的厚度是重要的材料技術(shù)指標。比如薄膜的干涉顯色，耐腐蝕性和耐磨性都與膜厚密切相關(guān)，膜厚均勻保證薄膜相關(guān)的性能均勻。