光刻膠市場(chǎng)

全球光刻膠市場(chǎng)擴(kuò)增，對(duì)光刻膠的總需求不斷提升。據(jù)估計(jì)，2015年國(guó)際光刻膠市場(chǎng)達(dá)73.6億美元，其中PCB光刻膠占比24.5%，LCD光刻膠占26.6%，半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%。2010年到2015年期間，國(guó)際光刻膠市場(chǎng)年復(fù)合增長(zhǎng)率約為5.8%；據(jù)中國(guó)產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù)，2015年，PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠的國(guó)際市場(chǎng)增速均在5%左右。國(guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域（2015）中提到“高分辨率光刻膠及配套化學(xué)品作為精細(xì)化學(xué)品重要組成部分，是重點(diǎn)發(fā)展的新材料技術(shù)”。在下游產(chǎn)業(yè)的帶動(dòng)下，江瀚咨詢預(yù)計(jì)國(guó)際光刻膠市場(chǎng)規(guī)模在2022年可能突破100億美元。

光刻膠：用化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行圖像轉(zhuǎn)移的媒介

光刻膠具有光化學(xué)敏感性，其經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將設(shè)計(jì)好的微細(xì)圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片。

光刻膠和集成電路制造產(chǎn)業(yè)鏈的前端的即為光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品，生產(chǎn)而得的不同類(lèi)型的光刻膠被應(yīng)用于消費(fèi)電子、家用電器、信息通訊、汽車(chē)電子、航空航天等在內(nèi)的各個(gè)下游終端領(lǐng)域，需求較為分散。

光刻膠基于應(yīng)用領(lǐng)域不同一般可以分為半導(dǎo)體集成電路（IC）光刻膠、 PCB光刻膠以及LCD光刻膠三個(gè)大類(lèi)。其中， PCB光刻膠占全球市場(chǎng)24.5%，半導(dǎo)體IC光刻膠占全球市場(chǎng)24.1%，LCD光刻膠占全球市場(chǎng)26.6%。

芯片光刻的流程詳解（一）

在集成電路的制造過(guò)程中，有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻，正因?yàn)橛辛怂覀儾拍茉谖⑿〉男酒蠈?shí)現(xiàn)功能?，F(xiàn)代刻劃技術(shù)可以追溯到190年以前，1822年法國(guó)人Nicephore niepce在各種材料光照實(shí)驗(yàn)以后，開(kāi)始試圖復(fù)一種刻蝕在油紙上的印痕（圖案)，他將油紙放在一塊玻璃片上，玻片上涂有溶解在植物油中的瀝青。經(jīng)過(guò)2、3小時(shí)的日曬，透光部分的瀝青明顯變硬，而不透光部分瀝青依然軟并可被松香和植物油的混合液洗掉。光刻膠的主要技術(shù)指標(biāo)有解析度、顯影時(shí)間、異物數(shù)量、附著力、阻抗等。通過(guò)用強(qiáng)酸刻蝕玻璃板，Niepce在1827年制作了一個(gè)d’Amboise主教的雕板相的產(chǎn)品。

Niepce的發(fā)明100多年后，即第二次大戰(zhàn)期間才應(yīng)用于制作印刷電路板，即在塑料板上制作銅線路。到1961年光刻法被用于在Si上制作大量的微小晶體管，當(dāng)時(shí)分辨率5um，如今除可見(jiàn)光光刻之外，更出現(xiàn)了X-ray和荷電粒子刻劃等更高分辨率方法。同種厚度的正負(fù)膠，在對(duì)于抗?jié)穹ê透g性方面負(fù)膠更勝一籌，正膠難以企及。