公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

什么是光刻掩模板

　在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構，稱為光刻掩模版。

　　半導體集成電路制作過程通常需要經(jīng)過多次光刻工藝，在半導體晶體表面的介質層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套（幾塊多至十幾塊）相互間能套準的、具有特定幾何圖形的光復印掩蔽模版。

尺寸漲縮原因分析

膠片在光繪前沒有經(jīng)過預置

由于膠片制造時無法預先控制膠片中的濕度與每個生產(chǎn)車間的濕度一致，因此使用之前應先使其與工作環(huán)境達到平衡的狀況。建議預置時間為12小時，預置時必須打開膠片的內包裝，使其與外界的空氣充分接觸。

石英巖是一種主要由石英組成的變質巖（石英含量大于85%），是石英砂巖及硅質巖經(jīng)變質作用形成。一般是由石英砂巖或其他硅質巖石經(jīng)過區(qū)域變質作用，重結晶而形成的。也可能是在巖漿附近的硅質巖石經(jīng)過熱接觸變質作用而形成石英巖。