濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開(kāi)向潔凈度級(jí)別高的房間"

100級(jí)：是常用的凈化工程，除了對(duì)空氣中的塵埃數(shù)有要求，對(duì)空氣中細(xì)菌的濃度也有明確要求。一般用于行業(yè)進(jìn)行無(wú)菌制造，例如制造臨床用于植入體內(nèi)的物品，藥品生產(chǎn)。醫(yī)學(xué)科學(xué)實(shí)驗(yàn)也在此環(huán)境中，包括實(shí)驗(yàn)動(dòng)物飼養(yǎng)環(huán)境。1000級(jí) 一般只對(duì)塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級(jí)，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級(jí)，這個(gè)級(jí)別比較的低，對(duì)凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業(yè)，無(wú)塵作業(yè)后，不允許交叉作業(yè)。 否則會(huì)影響項(xiàng)目的質(zhì)量。 也就是說(shuō)，在完成所有粉塵產(chǎn)生操作之后，可以進(jìn)行無(wú)塵操作。

壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過(guò)潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。100級(jí)：是常用的凈化工程，除了對(duì)空氣中的塵埃數(shù)有要求，對(duì)空氣中細(xì)菌的濃度也有明確要求。一般用于行業(yè)進(jìn)行無(wú)菌制造，例如制造臨床用于植入體內(nèi)的物品，藥品生產(chǎn)。醫(yī)學(xué)科學(xué)實(shí)驗(yàn)也在此環(huán)境中，包括實(shí)驗(yàn)動(dòng)物飼養(yǎng)環(huán)境。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。