平面拋光機行業(yè)此刻正遭遇新一輪的洗牌，傳統(tǒng)的平面拋光機隨著廠家越來越多，技術(shù)越來越透明，所能帶來的利潤也逐漸微薄。拋光通常使用的是1μm以下的微細磨粒，拋光盤用瀝青、石蠟、合成樹脂、人造革和錫等軟質(zhì)金屬或非金屬材料制成。如何能突破瓶頸發(fā)展新的商機已是迫在眉睫。而國家扶持半導(dǎo)體的相關(guān)政策出來后，隨著硅片生產(chǎn)廠商的積極響應(yīng)，也給平面拋光機生產(chǎn)廠家?guī)砹诵碌钠鯔C。

目前以平面拋光機廠家已經(jīng)開始研發(fā)硅片磨拋技術(shù)，主要針對大尺寸硅片的研磨和拋光。研磨機屬于典型的自動化設(shè)備，它的結(jié)構(gòu)包括工件工作臺進給機構(gòu)、工件調(diào)整機構(gòu)、研磨輪進給及壓力控制機構(gòu)和自動控制系統(tǒng)四大部分。但是在機會之余，我們也面臨一些問題和挑戰(zhàn)，相對國外而言，我們的技術(shù)是比較落后的，要想盡快有所成就還需要先向日本，德國等地學(xué)習(xí)，然后在此基礎(chǔ)上進行改良和完善，以適用我們國內(nèi)的生產(chǎn)環(huán)境。

   拋光不克不及進步工件的尺寸精度或多少外形精度，而因此獲得滑膩外面或鏡面光芒為目標，偶然也用以打消光芒（消光）。平面拋光通常以拋光輪作為拋光對象。不銹鋼按照結(jié)構(gòu)可以分為奧氏體不銹鋼，馬氏體不銹鋼，鐵素體不銹鋼。拋光輪一樣平常用多層帆布、不織布纖維、毛氈或皮革疊制而成，雙側(cè)用金屬圓板夾緊，其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等平均混雜而成的拋光劑。拋光時，高速扭轉(zhuǎn)的拋光輪（圓周速率在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對工件外面發(fā)生滾壓和微量切削，從而獲得光明的加工外面，外面粗拙度一樣平?？蛇_Ra0.63～0.01微米；當采納非油脂性的消光拋光劑時，可對光明外面消光以改良表面。

由于原理不同，兩種方式所呈現(xiàn)出來的優(yōu)劣勢各不相同，對工件表面精度的影響也存在差異。

離散型研磨，上下兩個研磨盤先進行相互研磨，然后對工件進行研磨，三者分別有不同的研磨軌跡，工件研磨終是三種運動

軌跡的結(jié)合。運動軌跡比較復(fù)雜，不會發(fā)生重合，所以隨著時間的增加，工件的兩個表平面平行度逐步提升，終能達到非常高的平行度。

相對而言，在固結(jié)研磨中，研磨機上的磨盤和磨片表面雖然能修整到較高的平行度，但是由于工件是粘貼在磨盤上的，粘貼劑有一定的厚度和誤差，這將一定程度影響工件的平行度。而國家扶持半導(dǎo)體的相關(guān)政策出來后，隨著硅片生產(chǎn)廠商的積極響應(yīng)，也給平面拋光機生產(chǎn)廠家?guī)砹诵碌钠鯔C。而且，固結(jié)研磨的研磨軌跡是磨盤和工件兩種運動軌跡的結(jié)合，工件外側(cè)的線速度大于內(nèi)側(cè)線速度，外側(cè)研磨量比內(nèi)側(cè)研磨量要大，隨著時間的增加，很容易導(dǎo)致工件內(nèi)凸外陷，所以工件的平行度誤差相對也較大。