曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門(mén)和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。

前階段有個(gè)客戶涂上感光油墨曝光后，上面再噴上一層油漆，導(dǎo)致氫氧化na水溶液溶液無(wú)法很好的滲透到油墨與金屬標(biāo)牌的連接處，從而沒(méi)辦法快速去墨，建議加高溫度，以及加長(zhǎng)浸泡的時(shí)間之后也可以很好的去掉感光蝕刻油墨。

顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序，其質(zhì)量的好與壞是整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移成功與否的重要標(biāo)志。滲鍍：所謂滲鍍，即是由于干膜與覆銅箔板表面粘結(jié)不牢，使鍍液深入，而造成"負(fù)相"部分鍍層變厚及鍍好的錫鉛抗蝕層，給蝕刻帶來(lái)問(wèn)題。

IMD模內(nèi)注塑工藝，這是從此物錄使用的一種國(guó)際流行的工藝，其實(shí)這種工藝很早就有了，故事就不再講了。但由于成本問(wèn)題真正應(yīng)用到產(chǎn)品設(shè)計(jì)領(lǐng)域并不久，IMD工藝采用模內(nèi)高溫注塑，一個(gè)手機(jī)殼成形需要出模、出片、印刷、蓋白、注塑、熱壓、質(zhì)檢等多個(gè)流程，把畫(huà)面植入殼體中間層，永遠(yuǎn)不會(huì)褪色變黃，殼體拋光，成像立體感強(qiáng)，高清，臟的時(shí)候一擦就干凈了，相對(duì)來(lái)說(shuō)優(yōu)點(diǎn)還是很多的。


亮面曝光顯影，精密五金蝕刻速率將會(huì)進(jìn)步。而進(jìn)步溶液溫度可加快化學(xué)反響速率，進(jìn)而加快精密五金蝕刻速率。將處理好的帶有圖像的不銹鋼板用夾具夾好，亮面曝光顯影報(bào)價(jià)，放入快速電鑄鎳槽內(nèi)進(jìn)行電鑄。電鑄的時(shí)間與電流大小視被鑄物件面積及厚度而定。邊際剝離乃由于精密五金蝕刻溶液的腐蝕，形成光阻與基材間的黏著性變差所造成的。處理的辦法則可運(yùn)用黏著促進(jìn)劑來(lái)添加光阻與基材間的黏著性。龜裂則是由于光阻與基材間的應(yīng)力區(qū)別太大，減緩龜裂的辦法可運(yùn)用較具彈性的屏蔽原料來(lái)吸收兩者間的應(yīng)力差曝光顯影工藝