PVD涂層與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍（水電鍍）之間的異同之處在于，PVD涂層與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍之間的相似點(diǎn)和差異相似，兩者均屬于表面處理類別，一種材料以某種方式被另一種表面覆蓋。PVD涂層技術(shù)是當(dāng)前主要的應(yīng)用行業(yè)，PVD涂層技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩類：裝飾性涂層和工具涂層。電鍍工具的目的是提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦因數(shù)，并增加工件的使用壽命，這方面主要用于各種切削工具，車刀（例如車刀，刨床，銑刀），鉆頭等，各種五金工具（例如螺絲刀，鉗子等），各種模具和其他產(chǎn)品。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

在ji小空間的電流密度極高，弧斑尺寸ji小，估計(jì)約為1μm～100μm，電流密度高達(dá)l05A／cm2～107A／cm2。每個(gè)弧斑存在極短時(shí)間，爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點(diǎn)處的鍍料，蒸發(fā)離化后的金屬離子，在陰極表面也會(huì)產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失，所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計(jì)的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場(chǎng)，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng)，有利于離子增大能量轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜，離化率較高，所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

通過(guò)濺射工藝涂覆薄膜有幾個(gè)特點(diǎn)：金屬，合金或絕緣體可以制成薄膜材料。相同組成的薄膜可以在適當(dāng)?shù)脑O(shè)置條件下由多個(gè)復(fù)雜的靶材制成。通過(guò)在放電氣氛中添加氧氣或其他活性氣體，可以生產(chǎn)目標(biāo)材料和氣體分子的混合物或化合物?？梢钥刂颇繕?biāo)輸入電流和濺射時(shí)間，并且容易獲得高精度的膜厚。與其他工藝相比，有利于生產(chǎn)大面積的均勻薄膜。濺射的粒子不受重力影響，并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材與薄膜之間的粘合強(qiáng)度是普通氣相沉積薄膜的10倍以上，并且由于濺射的粒子具有高能量，因此表面將繼續(xù)在成膜表面上擴(kuò)散以獲得堅(jiān)硬而致密的表面電影。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制