由于電鍍的某些工序有可塑性，某些影響鍍件質(zhì)量的疵病有潛伏性，因此操作工人在生產(chǎn)中自覺或不自覺遺漏某些前處理或后處理工序，在質(zhì)量檢驗中有時是不容易被發(fā)現(xiàn)的，而一旦發(fā)現(xiàn)質(zhì)量事故，部分操作工人卻往往不會自覺承認(rèn)自己違反工藝操作的行為，這將給技術(shù)人員分析質(zhì)量事故造成很大的麻煩，而且造成不應(yīng)當(dāng)發(fā)生的質(zhì)量事故，給工廠帶來很大的經(jīng)濟損失。在這種情況下，在分析質(zhì)量事故原因時即使采用“因果分析圖解”等先進(jìn)方法，大概也無濟于事。因此在質(zhì)量管理中應(yīng)當(dāng)發(fā)揮檢驗員監(jiān)督工人執(zhí)行工藝紀(jì)律的作用，這樣才能起到“預(yù)防為主”的作用。

在電鍍工藝試驗和鍍液故障分析中廣泛采用“正交試驗法”，因為采用“正交試驗法”可以用較少的試驗次數(shù)，獲得較優(yōu)的試驗結(jié)果。我們認(rèn)為，在工藝試驗和鍍液故障分析中如果能把“正交試驗法”和赫爾槽試驗結(jié)合起來，將可采用更少的試驗次數(shù)而獲得試驗結(jié)果。

在電鍍生產(chǎn)中，為了監(jiān)控電鍍質(zhì)量變化，必須對各種鍍槽的溶液尤其是光亮鍍鎳和新工藝鍍液定期進(jìn)行赫爾槽試驗，制作每種鍍液的赫爾槽試驗故障樣板，建立每個鍍槽故障樣板的原始記錄，每次赫爾槽試驗的陰極板應(yīng)與原始記錄故障樣板進(jìn)行比較，若槽液逐漸接近某一樣板，說明故障將要發(fā)生，就可以及時處理，消滅故障的隱患。

赫爾槽試驗時，若認(rèn)為主鹽濃度過低，可補加后再試驗，使燒焦區(qū)在其他條件相同的情況下，達(dá)到或接近新配液的試片燒焦范圍。

簡單鹽電鍍

（1） pH 高時，陰極界面液層中H 濃度本身就低，量不大的H 還原即會使pH 升高至產(chǎn)生燒焦的值。

（2） 鍍液本體的H 濃度低時，H 向陰極界面液層的擴散、電遷移速度也低，來不及補充陰極界面液層中H 的消耗，其pH 上升更快，也加劇燒焦。